XENOS(德國)

XENOS Semiconductor Technologies

德國XENOSSemiconductorTechnologiesGmbHwww.xenos-semi.comXENOS半導體技術有限公司成立于2001年，主要為半導體技術和納米技術，尤其是電子或高聚焦離子束平版印刷提供工具、工藝和服務。我們的半導體平版印刷產(chǎn)品范圍廣泛，既包括附加微影機的翻新、掃描式電子顯微鏡（從XeDraw（10赫茲）到直寫速度為20兆赫、40兆赫或50兆赫的高速微影機XPG2） ，也包括裝備完善的FIB（聚焦離子束）、100千電子伏特肖特基發(fā)射極電子束光刻系統(tǒng)。與爭競伙伴相比，我們的平版印刷設備具有以下優(yōu)勢：●直寫速度快，可達50赫茲像素頻率。●智能化寫入原函數(shù)，特別適用于光學儀器，如：在寫入速度情況下，通過專門多項式生成硬件，由第三級仿樣擬合生成的彎曲寫入原函數(shù)?！窨伸`活用于未來的研究和應用，由于廣泛使用了可編程邏輯和復雜精密的固件，并具有內(nèi)核導入功能，產(chǎn)品的硬件、軟件和固件能在數(shù)分鐘內(nèi)輕松升級?！衽c經(jīng)驗豐富的平版印刷用戶合作開發(fā)達到技術發(fā)展水平的、便于用戶使用的軟件。我們的團隊由熟練的平版印刷和半導體技術專家組成，在我們靈活性較高的產(chǎn)品的幫助下，他們能根據(jù)客戶在使用過程中遇到的問題找到解決方案。鑒于此，我們能與客戶合作設計新產(chǎn)品、完善新產(chǎn)品，如將寫入速度化。XENOSSemiconductorTechnologiesGmbHwasfoundedin2001andisdealingwithtools,processesandservicesforSemiconductor-andNanotechnology,especiallyElectronorFocussedIonBeamLithography(FIB).OurproductportfolioofSemiconductorLithographySystemsrangesfromadd-onwritersretrofitting