| 型號(hào) | ARL QUANT’X EDXRF熒光光譜儀 |
目前國(guó)內(nèi)眾多家檢測(cè)機(jī)構(gòu)使用QUANT'X儀器來(lái)進(jìn)行ROHS檢測(cè)和多種材料成份分析檢測(cè)。例如質(zhì)檢總局、標(biāo)準(zhǔn)所、浙江技術(shù)監(jiān)督局產(chǎn)品質(zhì)檢所、大連海關(guān)、青島商檢局、天津海關(guān)、檢測(cè)中心、山東省技術(shù)監(jiān)督局、河南技術(shù)質(zhì)量監(jiān)督局測(cè)試所、南京市技術(shù)監(jiān)督局、浙江省技術(shù)監(jiān)督局、浙江嘉善縣技術(shù)監(jiān)督局、上海計(jì)量測(cè)試研究院、泉州商檢局等等具備法定檢驗(yàn)資質(zhì)的多家單位在使用。典型采購(gòu)：臺(tái)灣富士康集團(tuán)采購(gòu)45臺(tái)ARL QUANT’X熒光能譜儀，用來(lái)快速分析電子產(chǎn)品中的塑料和合金是否含有RoHS指令規(guī)定的有害元素，以限制有害物質(zhì)在電子產(chǎn)品中的應(yīng)用。
| 優(yōu)勢(shì)及特點(diǎn)： ● 分析元素的濃度范圍 ppm—100% ● 成熟穩(wěn)定的ROHS/WEEE/ELV分析檢測(cè)方法，準(zhǔn)確的分析數(shù)據(jù) ● 從Na到U的痕量分析，的靈敏度，多元素同時(shí)測(cè)定，lng的檢測(cè)限壁壘 ● 較高的分析速度，對(duì)工藝過(guò)程控制有利，用于ROHS/WEEE檢測(cè)時(shí)間30-120秒 ● 經(jīng)驗(yàn)系數(shù)法,基本參數(shù)法,FP無(wú)標(biāo)樣分析法分析誤差小于0.3%~1.0%,減少對(duì)標(biāo)樣的 依賴(lài)性 ● 使用多個(gè)或少量標(biāo)樣，甚至無(wú)標(biāo)樣從8個(gè)分析方法中選擇一個(gè)進(jìn)行快速分析 ● 的數(shù)字脈沖處理可以得到的元素峰分離 ● 從周期表上選出元素，利用模板選出方法，快速分析 ● 全自動(dòng)校準(zhǔn)，自動(dòng)監(jiān)測(cè)，自動(dòng)報(bào)警系統(tǒng)計(jì)算機(jī)控制 ● 整機(jī)穩(wěn)定性連續(xù)8小時(shí)測(cè)RSD<0.25% ● 對(duì)樣品損害、真正的檢測(cè) ● 鍍層和薄膜測(cè)量技術(shù), 具有無(wú)標(biāo)樣分析測(cè)厚技術(shù) ● 制樣工作量少或者全無(wú)，樣品操作的靈 ● 機(jī)械結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、，現(xiàn)場(chǎng)安裝快速、方便 ● 緊湊，便于現(xiàn)場(chǎng)測(cè)量進(jìn)行的運(yùn)輸 規(guī)格指標(biāo) 樣品室 ● 樣品類(lèi)型：固體 粉末 液體 濾渣 鍍層和其它 ● 尺寸：30.5CM(W)×38.9CM(D)×6.6CM(H) ● 增高室(選購(gòu)件):21.5CM或37.1CM ● 單位盤(pán):樣品可大至樣品室大小 ● 10位盤(pán)(選購(gòu)件):帶自轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu),樣品可大至47CM ● 20位盤(pán)(選購(gòu)件):樣品可大至21CM ● 自動(dòng)和手動(dòng)盤(pán):為特種樣品的樣品盤(pán),選購(gòu)件 ● 環(huán)境:空氣、真空(選購(gòu)件)和充氦(選購(gòu)件) ● 新增樣品定位CCD。 激發(fā) ● X-光管:通量,端窗,RH靶,76um鈹窗,空氣冷卻,其它靶可選 ● X-光發(fā)生器:4-50KV,1KV間隔,0.02-2.0mA,0.02mA間隔 ● 濾光片:7種濾光片加1空位,自動(dòng)選擇 ● 準(zhǔn)直器(選購(gòu)件):1.0、2.0、 3.5、 6.8各8.8五種
檢測(cè)配置器 ●Si(Li) 半導(dǎo)體差溫制冷探測(cè)器 PCD 155 eV 分辨率 at 10K cps 15mm2 性能與液氮探測(cè)器相同 低維護(hù)費(fèi)用， 高的分析效率 價(jià)格3萬(wàn)美元 數(shù)據(jù)采集 ● 數(shù)字脈沖處理器:參數(shù)程序控制,自動(dòng)能量校正 ● 多道脈沖分析器:32位,4096道多道分析器 ● 數(shù)據(jù)接口:計(jì)算機(jī)以太網(wǎng)接口 分析處理器和Wintrace ● 計(jì)算機(jī)\打印機(jī):主流計(jì)算機(jī)和彩色打印機(jī) ● 顯示:X-射線(xiàn)能譜,重疊譜比較,峰鑒定標(biāo)記,分析參數(shù) ● 輸出:器,圖形打印機(jī)和調(diào)制解調(diào)器 ● 自動(dòng)化:樣品室環(huán)境,X-射線(xiàn)源輸出,濾光片選擇,多次激發(fā)條件,和樣品選擇 ● 譜處理:自動(dòng)元素鑒定,數(shù)字濾波本底扣附近,小二乘法經(jīng)驗(yàn)峰去卷積,總峰強(qiáng)度,和凈峰強(qiáng)度 ● 分析技術(shù):經(jīng)驗(yàn)系數(shù)法和基本參數(shù)法,歸一化,校正曲線(xiàn)圖顯示 ● 操作系統(tǒng):微軟WintraceXP及更新的版本 尺寸和重量(不包括PC真空系統(tǒng)) ● 外形尺寸:寬71.88cm,高41.15cm,深59.18cm ● 重量:90.7kg 使用要求 ● 電源:100、115或230VAC,50或60HZ,功率1000W,真空泵需 ● 電話(huà):遙控診斷和遙控監(jiān)測(cè)需要通過(guò)因特網(wǎng)連線(xiàn) 環(huán)境要求 ● 溫度:0~32 Cº ● 濕度:20~80%RH(無(wú)冷凝水) 多樣靈活的分析方法 ● 方法一：基本參數(shù)法分析技術(shù)和無(wú)標(biāo)樣分析（FP）方法。直接對(duì)樣品分析。無(wú)標(biāo)樣，或 需要一個(gè)標(biāo)樣 ● 方法二：經(jīng)驗(yàn)系數(shù)法，需要提供幾個(gè)帶有屬元素的標(biāo)樣 ● 方法叁：類(lèi)比法，建立標(biāo)準(zhǔn)樣品譜庫(kù) ● 方法四：可無(wú)標(biāo)樣分析和直接測(cè)量鍍層厚度 參考方法 ● ASTM方法 ● D5838-96(2001):X-熒光能譜法測(cè)定危險(xiǎn)廢燃料中痕量元素的標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試方法 ● D6052-92:X-熒光能譜法對(duì)液體危險(xiǎn)廢料中元素分析的標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試方法 應(yīng)用領(lǐng)域： ● 應(yīng)對(duì)RoHS & WEEE/ELV指令分析 ● 各種金屬膜厚度測(cè)量、工業(yè)鍍層厚度測(cè)量 ● 氣溶膠顆粒濾膜， 刑偵以及痕量分析 ● 土壤、催化劑、礦石、原材料成份分析等 ● 營(yíng)養(yǎng)添加劑 ,各種油品成份分析等 ● 磁性介質(zhì)和半導(dǎo)體，各種合金、貴金屬成份分析 |
Si(Li) 半導(dǎo)體差溫制冷探測(cè)器 X-光 管
結(jié) 構(gòu) 圖
測(cè)試元素選定表 測(cè) 試 譜 圖 |
ARL QuanX –各種基體材料的檢出限 固體液體粉末漿狀物材料和形狀 |
