用途
CWP-2A型雙盤金相磨拋機適用于巖相標本、金相試樣的磨拋工序。
巖相：無論巖石、礦物、陶瓷、玻璃及其他硅酸鹽材料使用本機磨拋做出高質(zhì)量的標本。 機器帶有電機自帶保護裝置。部件采用國外新型的單片微機，它具有干擾能力強、工作穩(wěn)定、高、保護參數(shù)設(shè)定簡單方便和數(shù)字化、智能化、網(wǎng)絡化等特點?？捎糜谶^載、輕載、缺相、過壓、欠壓、堵轉(zhuǎn)短路、漏電、及三相電路不平衡保護和多方啟?？刂?br />
金相：對有色金屬和黑色金屬的試樣粗磨、細磨、干磨、濕磨、拋光都為適用。
技術(shù)參數(shù)
1、機器帶有電機自帶保護裝置。 磨盤直徑

2、Diameter of grinding disk ￠230mm
3、磨盤轉(zhuǎn)速 2、Revolving speed of disk 200-1400r/min
4、電動機功率 3、Diameter of sand paper 0.35KW
5、電源電壓 4、MotorO220V, 50HZ
6、外形尺寸 5、Overall dimensions 可定制
7、重 量 6、Net weight
結(jié)構(gòu)特征概述
MP-2雙盤立式金相磨拋機是我廠新研制的產(chǎn)品，本機型采用全不銹鋼外殼，外形新穎美觀，是金相實驗室理想的設(shè)備。它利用各種不同粒度的耐水研磨金相砂紙及拋光材料，對各種金屬及其合金試樣以及各種巖相試樣進行研磨和拋光。本機通過調(diào)速按鈕，可獲得由200-1500轉(zhuǎn)/分各檔速度，用戶可根據(jù)需要選用不同速度，是研磨、拋光廉用型。該機的磨盤直徑和功率較大，適用于很多材料的試樣制備，具有傳動平穩(wěn)、噪音小、操作、維修方便等優(yōu)點。可兩人同時操作，加快制樣速度。并配有清洗水斗，方便制樣時清洗。且性價比國外同類產(chǎn)品。