- 品牌/商標：Filmetrics
- 企業(yè)類型：制造商
- 新舊程度：全新
- 原產(chǎn)地：美國
膜厚測量儀的詳細介紹
通過Filmetrics膜厚測量儀新反射式光譜測量技術(shù),多4層透明薄膜厚度、 n、k值及粗糙度能在數(shù)秒鐘測得。其應用廣泛，例如 :
半導體工業(yè) : 光阻、氧化物、氮化物。
LCD工業(yè) : 間距 (cell gaps)，ito電極、polyimide 保護膜。
光電鍍膜應用 : 硬化鍍膜、抗反射鍍膜、過濾片。
極易操作、快速、準確、機身輕巧及價格便宜為其主要優(yōu)點，F(xiàn)ilmetrics提供四種不同型號以供選擇:
F20 : 這簡單入門型號有三種不同波長選擇(由220nm紫外線區(qū) 至1700nm近紅外線區(qū))為任意攜帶型。薄膜厚度范圍是 30a到100nm，為1a゜。
F30:這型號可安裝在任何真空鍍膜機腔體外的窗口?？蓪崟r監(jiān)控長晶速度、實時提供膜厚、n、k值。并可切定某一波長或固定測量時間間距。更可加裝至三個探頭，同時測量三個樣品，具紫外線區(qū)或標準波長可供選擇。
F40:這型號安裝在任何顯微鏡外，可提供小5um光點(100倍放大倍數(shù))來測量微小樣品。
F50:這型號配備全自動xy工作臺，由8"x8"到18"x18"或客戶提供所需尺寸均可。通過快速掃瞄功能，可取得整片樣品厚度分布情況(mapping)。
負擔得起膜厚測量儀系統(tǒng)F20
使用F20分光計系統(tǒng)可以簡便快速的測量厚度和光學參數(shù)（n和k）。您可以在幾秒鐘內(nèi)通過薄膜上下面的反射比的頻譜分析得到厚度、折射率和消光系數(shù)。任何具備基本電腦技術(shù)的人都能在幾分鐘內(nèi)將整個桌面系統(tǒng)組裝起來。 F20包括所有測量需要的部件：分光計、光源、光纖導線、鏡頭集合和Windows下運行的軟件。您需要的只是接上您的電腦。 膜層實例 幾乎任何光滑、半透明、低吸收的膜都能測。包括： sio2（二氧化硅） sinx（氮化硅） dlc（類金剛石碳） photoresist（光刻膠） polyer layers（高分子聚合物層） polymide（聚酰亞胺） polysilicon（多晶硅） amorphous silicon（非晶硅） 基底實例： 對于厚度測量，大多數(shù)情況下所要求的只是一塊光滑、反射的基底。對于光學常數(shù)測量，需要一塊平整的鏡面反射基底；如果基底是透明的，基底背面需要進行處理使之不能反射。 包括：
silicon（硅） glass（玻璃） aluminum（鋁） gaas（砷化鎵） steel（鋼） polycarbonate（聚碳酸脂） polymer films（高分子聚合物膜）
應用
| 半導體制造 | 液晶顯示器 | 光學鍍膜 |
| photoresist光刻膠 oxides氧化物 nitrides氮化物 | cell gaps液晶間隙 polyimide聚酰亞胺 ito納米銦錫金屬氧化物 | hardness coatings硬鍍膜 anti-reflection coatings增透鍍膜 filters濾光 |
f20 使用仿真活動來分析光譜反射率數(shù)據(jù)。 標準配置和規(guī)格
| F20-UV | F20 | F20-NIR | F20-EXR | |
| 只測試厚度 | 3nm ~ 70μm | 15nm ~ 70μm | 100nm ~ 250μm | 15nm ~ 250μm |
| 測試厚度和n&k值 | 50nm ~ 5μm | 100nm ~ 5μm | 300nm ~ 10μm | 100nm ~ 10μm |
| 波長范圍 | 200-1100nm | 380-1100nm | 950-1700nm | 380-1700nm |
| 準確度 | 大于 0.4％ 或 2nm | |||
| 1A | 2A | 1A | ||
| 穩(wěn)定性 | 0.7A | 1.2A | 0.7A | |
| 光斑大小 | 20μm至1.5mm可調(diào) | |||
| 樣品大小 | 1mm至300mm 及更大 | |||
| 探測器類型 | 1250-元素硅陣列 | 512-元素 砷化銦鎵 | 1000-元素 硅 & 512-砷化銦鎵陣列 | |
| 光源 | 鎢鹵素燈，氚燈 | |||
| 電腦要求 |
60mb 硬盤空間 50mb 空閑內(nèi)存 usb接口 | |||
| 電源要求 | 100-240 vac, 50-60 hz, 0.3-0.1 a | |||
