產(chǎn)品品牌：

QUORUM

產(chǎn)品型號(hào)：

Q150R

Q150R是一款多功能緊湊型機(jī)械泵抽真空鍍膜系統(tǒng)，對(duì)于SEM樣品制備及其它鍍膜應(yīng)用非常理想。直徑為165mm/6.5”的腔室可容納多種需要鍍導(dǎo)電膜的樣品 – 尤其用于在SEM應(yīng)用中提高成像質(zhì)量。創(chuàng)新的設(shè)計(jì)體現(xiàn)在下述三種型號(hào)配置中，所有這三種型號(hào)都同樣享有我們的三年質(zhì)保：
Q150R S
機(jī)械泵抽真空離子濺射鍍膜儀，適于給樣品鍍制不氧化金屬膜（即貴金屬膜），如金、銀、鉑和鈀。
Q150R E
機(jī)械泵抽真空蒸發(fā)鍍碳儀，使用碳絲或碳繩為SEM樣品鍍膜。
Q150R ES
集Q150R S和Q150R E兩者的功能于一體，節(jié)省空間。這個(gè)雙重用途、結(jié)構(gòu)緊湊、機(jī)械泵抽真空的鍍膜系統(tǒng)標(biāo)配有濺射插入頭和碳絲蒸發(fā)插入頭 – 可提供無(wú)與倫比的多用途鍍膜。
此外，輝光放電選項(xiàng)也是可用的（僅Q150R S和Q150R ES版本），它可實(shí)現(xiàn)樣品表面改性（如疏水表面改為親水表面）。
快速簡(jiǎn)便：快速、易更換的鍍膜插入頭，能在同一個(gè)緊湊設(shè)計(jì)中實(shí)現(xiàn)金屬濺射、碳蒸鍍和輝光放電三者之間的快速轉(zhuǎn)換。
采用全自動(dòng)觸摸屏控制,可快速輸入數(shù)據(jù)。與鍍膜處理方法及鍍膜材料相適配的鍍膜參數(shù)方案可通過(guò)觸摸按鍵實(shí)現(xiàn)預(yù)設(shè)并儲(chǔ)存。自動(dòng)放氣控制功能確保了濺射期間的真空狀態(tài)，可提供良好的一致性和可重復(fù)性。
易使用：智能識(shí)別系統(tǒng)可自動(dòng)探測(cè)安裝了何種類型的鍍膜插入頭，以便立即運(yùn)行相應(yīng)的鍍膜方案?？纱鎯?chǔ)多個(gè)用戶自定義的鍍膜方案 – 這對(duì)于需更改鍍膜參數(shù)實(shí)現(xiàn)不同應(yīng)用的多用戶實(shí)驗(yàn)室非常理想。多種樣品臺(tái)組件適用于各種尺寸和類型的樣品；所有樣品臺(tái)都帶有快速、易更換及落入式設(shè)計(jì)的特點(diǎn)。
功能強(qiáng)大、可重復(fù)鍍膜及高可靠性：可預(yù)編程的鍍膜參數(shù)及方案能確保一致且可重復(fù)的結(jié)果。需要沉積厚膜時(shí)，本系統(tǒng)提供長(zhǎng)達(dá)60分鐘且無(wú)需破真空的濺射時(shí)間。設(shè)計(jì)先進(jìn)的碳蒸鍍插入頭操作簡(jiǎn)單,具有對(duì)蒸發(fā)電流參數(shù)的完全控制，確保了SEM應(yīng)用中一致的和可重復(fù)的碳沉積?？蛇x的膜厚監(jiān)控附件用于可重復(fù)的膜厚控制。
適配性強(qiáng)且用途廣：濺射、碳蒸鍍、輝光放電插入頭及多種可選件，使Q150R對(duì)于多用戶實(shí)驗(yàn)室應(yīng)用非常理想。可濺射一系列不氧化金屬，如金、銀、鉑和鈀。碳絲蒸鍍插入頭處理樣品速度非?？臁Ｒ部蛇x用碳棒蒸發(fā)。

還可用于金屬薄膜研究及電極的應(yīng)用。

濺射靶材或碳蒸發(fā)源的選用：
金 – 常規(guī)SEM應(yīng)用時(shí)使用普遍的靶材；濺射速度快且導(dǎo)電效果。
銀 – 高導(dǎo)電性且具有高的二次電子發(fā)射率。濺射上去的銀易于去除，可使樣品成像后還原到其原來(lái)狀態(tài)。
鉑 – 在機(jī)械泵抽真空的濺射鍍膜系統(tǒng)中它的顆粒尺寸小，且具有優(yōu)良的二次電子發(fā)射能力。
鈀 – 用于x射線能譜分析非常理想，因其譜線分布沖突相對(duì)較低。
金/鈀合金（80:20%） - 通過(guò)限制沉積期間金顆粒的團(tuán)聚，鈀可提高終分辨率。
碳絲蒸鍍 – 碳絲蒸鍍過(guò)程的閃蒸特性及快速更換碳絲的能力，使其處理樣品速度非?？?。
碳棒蒸發(fā) – 用于需要減慢速度但可控性更好的蒸發(fā)過(guò)程，可制備更趨向無(wú)定形的碳膜。Quorum/Emitech近投放市場(chǎng)的新型臺(tái)式濺射鍍膜儀SC3000，可適合電鏡制樣和12英寸晶圓快速鍍膜等用途。這個(gè)新型濺鍍系統(tǒng)重要特點(diǎn)和優(yōu)點(diǎn)在于它緊湊的腔室尺寸、少的抽真空時(shí)間和的制樣產(chǎn)量。
這個(gè)采用全自動(dòng)控制的新型系統(tǒng)能夠在真空條件下順序?yàn)R鍍多達(dá)三層不同的金屬膜，靶材可選菜單有15種預(yù)設(shè)工作程序的材料，還能自動(dòng)探測(cè)放入的晶圓尺寸如100，150，200或300mm。具有渦輪泵的高真空鍍膜儀使用標(biāo)準(zhǔn)濺射靶材，在系統(tǒng)中允許使用多種靶材，如易氧化金屬和貴金屬。
若需獲得更多關(guān)于新型SC3000的資料或調(diào)研考查這個(gè)系統(tǒng)，請(qǐng)?jiān)L問(wèn)中國(guó)區(qū)代理網(wǎng)站：www.tansi.com.cn