儀器特點:采用半導(dǎo)體激光器(650nm、4mw)作為光源,功率穩(wěn)定度優(yōu)于1%。用一維位移架+十二檔光探頭進行數(shù)據(jù)測量,更加客觀、可達0.02mm
光學(xué)實驗導(dǎo)軌為1200mm。
技術(shù)參數(shù): 采用半導(dǎo)體激光650nm、4mw作為光源,功率穩(wěn)定度優(yōu)于1%。用一維位移架+十二檔光探頭進行數(shù)據(jù)測量,更加客觀、
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儀器特點:采用半導(dǎo)體激光器(650nm、4mw)作為光源,功率穩(wěn)定度優(yōu)于1%。用一維位移架+十二檔光探頭進行數(shù)據(jù)測量,更加客觀、可達0.02mm
光學(xué)實驗導(dǎo)軌為1200mm。
技術(shù)參數(shù): 采用半導(dǎo)體激光650nm、4mw作為光源,功率穩(wěn)定度優(yōu)于1%。用一維位移架+十二檔光探頭進行數(shù)據(jù)測量,更加客觀、