光清洗技術(shù)是利用化合物的光敏氧化作用去除黏附在材料表面上的物質(zhì)，經(jīng)過光清洗后的材料表面可以“原子清潔度”。更詳盡的講：UV光源發(fā)射波長為185nm和254nm的光波，具有很高的能量，當這些光子作用到被清洗物體表面時，由于大多數(shù)碳氫化合物對185nm波長的紫外光具有較強的吸收能力，并在吸收185nm波長的紫外光的能量后分解成離子、游離態(tài)原子、受激分子和中子，這就是所謂光敏作用。空氣中的氧氣分子在吸收了185nm波長的紫外光后也會產(chǎn)生臭氧和原子氧。臭氧對254nm波長的紫外光同樣的吸收作用，臭氧又分解為原子氧和氧氣。其中原子氧是活潑的，在它作用下，物體表面上的碳和碳氫化合物的分解物可化合成可揮發(fā)的氣體：二氧化碳和水蒸氣等逸出表面，從而徹底清除了黏附在物體表面上的碳和污染物。清洗時，使基板治濕性向上。玻璃基板是以滾輪方式輸送，上方裝置低壓水銀燈產(chǎn)生紫外線照射。玻璃基板所累積紫外線能量愈多，其表面水接觸愈小，成反比關(guān)系。一般STN-LCD制作過程中，需求的玻璃基板累積紫外線能量為300nj/cm2（253.7nm）以上。而彩色STN-LCD及彩色濾光片制作過程中，要求的玻璃基板累積紫外線能量為600nj/cm2（253.7nm）。在TFT-LCD制作過程中，除了低壓水銀燈產(chǎn)生臭氧清洗玻璃外，目前制程的主流是，使用Excimer　Lamp，其172nm波長紫外線的高反應性質(zhì)對玻璃的清洗效率更好?！?