JLD9000離子接地系統(tǒng)是由安徽金力電子有限公司采用美國技術(shù)，與國內(nèi)院校合作研制、生產(chǎn)的新型接地系統(tǒng)。JLD9000程度地解決了降阻性、耐腐性和使用壽命等問題，使得該產(chǎn)品在各項(xiàng)接地性能和適應(yīng)性方面優(yōu)勢，應(yīng)用領(lǐng)域十分廣闊。
　　科技及材料——JLD9000離子接地系統(tǒng)外部由紫銅合金制成，并經(jīng)過的腐工藝處理，以高導(dǎo)電性能及延長使用壽命；接地體內(nèi)部及外部配裝兩種富離子填充材料，接地體外部填充材料是以具有強(qiáng)吸水力，強(qiáng)吸附力和陽離子交換性能高的材料為主體，配以、降阻、腐、膨脹系數(shù)高不受溫度變化影響、耐高電壓沖擊的多種化學(xué)材料為輔料。接地體內(nèi)部填充材料含有的電離子化合物，能充分吸收空氣中的水分，通過潮解作用，將電離子釋放到土壤中，導(dǎo)體外部緩釋降阻，且保持阻值長期穩(wěn)定。接地體內(nèi)的緩釋填充劑埋設(shè)后，接地電阻會逐漸下降，半年至一年內(nèi)穩(wěn)定值，埋設(shè)緩釋過程可以長達(dá)30年。土壤的限制，土壤電阻率過高的直接原因是因?yàn)槿狈ψ杂呻x子的輔助導(dǎo)電作用。JLD9000離子接地系統(tǒng)在接地體內(nèi)部加入可逆性緩釋填充劑，這種填充劑具有吸水、放水可逆的特點(diǎn)。通過這種方式產(chǎn)生的離子，可以釋放到周圍的土壤中，使接地成為一個離子發(fā)生裝置，從而周邊土質(zhì)使之接地降阻要求。接地外部填充劑通過與其內(nèi)部電解離子填充劑的相互作用產(chǎn)生針對殼層土壤的化學(xué)處理，降低殼層土壤的電阻率，同時在緩釋接地與大地土壤之間，形成了一個過渡帶，了接地的等效截面積和土壤的接觸面積，消除了接地體與土壤之間的接觸電阻，了地中的電場分布，填充劑良好的滲透性能，深入到泥土及巖縫中，形成樹根網(wǎng)狀，了地中的泄流面積。
　　1、JLD9000電；2、現(xiàn)有土壤；3、外部填充材料；
　　4、離子擴(kuò)散區(qū)；5、擴(kuò)大的導(dǎo)電范圍
　　
　　性能比較
　　與傳統(tǒng)接地方式比較，JLD9000降阻效果明顯，100歐姆降2歐姆1支電；施工簡單，單支電占地0.1平方米；工程費(fèi)用總體開支大大降低，是對地質(zhì)條件復(fù)雜、降阻要求高的環(huán)境尤為明顯；使用壽命長，30年免維護(hù)，在這方面國外同類產(chǎn)品（國外產(chǎn)品一般2－3年要維護(hù)）。