詢價
- 是否全新：全新
- 可通入氣體：多種
- 高電壓： -1600 DCV
- 機械泵：標準配置 2L/S
- 濺射面積：Φ50mm
- 高真空度：≤4×10-2mbar
小型離子濺射儀 型號:M31/SD-900小型離子濺射儀 型號:M31/SD-900
原理：
依據二極(DC)直流濺射原理。濺射電流調整控制器、微型真空氣閥在工作時結合內部自
動控制電路控制真空室壓強、電離電流及任意所需要的電離氣體。根據電場中氣體電離
特性，采用大容量樣品濺射真空室和相應面積濺射靶，使濺射鍍層均勻純凈。
參數：
? 主機規(guī)格：300mm×360mm×380mm（W×D×H）
? 靶（部電極）：50mm×0.1mm（D×H）
? 靶材：Au（配）
? 樣品室：硼硅酸鹽玻璃 160mm×120mm（D×H）
? 靶材尺寸：Ф 50mm
? 真空指示表： 高真空度：≤ 4X10-2 mbar
? 離子電流表： 大電流：50mA
? 定時器： 長時間：0-360
? 微型真空氣閥：可連接φ 3mm 軟管
? 可通入氣體： 多種
? 高電壓： -1600 DCV
? 機械泵：準配置 2L/（國產 VRD-8）
用途：
適用于電鏡實驗室的掃描電子顯微鏡（EM）樣品制備，非導體材料實驗電極制作。
2、可調節(jié)濺射電流和真空室壓強以控制鍍膜的速率和顆粒的大小。
3、ETPLAMA 手動啟動按鈕可預先設置好壓強和濺射電流避免對膜造成不必要的損傷。
4、真空保護可避免真空過低造成設備短路。
5、同時可以通過換不同的靶材（金、鉑、銥、銀、銅等），以達到細顆粒的涂層。
6、通過通入不同的惰性氣體以達到純凈的涂層。
技術規(guī)格 參數
主機 300mm×360mm×380mm（W×D×H）
真空規(guī) 皮拉尼真空計
靶（部電極）尺寸 Φ50mm×0.1mm（D×H），Au（配）
樣品室尺寸 160mm×120mm（D×H），硼硅酸鹽玻璃
濺射面積 Φ50mm
高真空度 ≤4×10-2mbar
大電流 50mA
定時器時間 0-360s
微型真空氣閥 可連接φ3mm軟管
可通入氣體 多種
高電壓 -1600DCV
電源 220V AC,50Hz接地三腳插頭
機械泵 2L/
重量 ~20Kg
小型離子濺射儀 型號:M31/SD-900小型離子濺射儀 型號:M31/SD-900
