詢(xún)價(jià)
- 類(lèi)型：多元素分析儀器
- 測(cè)量范圍：對(duì)聚合物材料：LOD(Pb)≤5ppm;LOD(Hg)≤5ppm;LOD(Cr)≤5ppm;LOD(Br)≤5ppm;LOD(Cd)≤5ppm;對(duì)銅基體材料：LOD(Pb)≤20ppm;
- 測(cè)量精度：0.08%
- 分析時(shí)間：30sec~100sec
- 電源電壓：0-50
- 適用范圍：無(wú)鹵檢測(cè)，合金分析，貴金屬分析，玩具檢測(cè)，RoHS檢測(cè)，金屬鍍層，石化、煉油、塑料，汽車(chē)零部件，電子電氣設(shè)備，信息通訊設(shè)備零件
- 供電方式：見(jiàn)詳情
XRF350B元素鹵素檢測(cè)光譜儀
XRF350B元素鹵素檢測(cè)光譜儀
XRF350B元素分析儀光譜儀，ROHS測(cè)試儀
XRF350B元素分析儀光譜儀，ROHS測(cè)試儀
產(chǎn)品慨述
能量色散 X 熒光光譜儀（EDXRF）
XRF-350B 是一款專(zhuān)門(mén) RoHS 檢測(cè)儀器，其核心光路系統(tǒng)集合國(guó)內(nèi) 外幾十年 EDXRF 尖端技術(shù)，核心部件采用美國(guó)進(jìn)口，軟件算法采用美 國(guó) EDXRF 前沿技術(shù)，儀器所用標(biāo)準(zhǔn)樣品均有權(quán)威第三方檢測(cè)機(jī)構(gòu)報(bào)告； 精密度高、準(zhǔn)確度、檢出限等技術(shù)參數(shù)全面超過(guò)國(guó)內(nèi)外同類(lèi)儀器。
XRF-350B 是一款專(zhuān)門(mén) RoHS 檢測(cè)儀器，其核心光路系統(tǒng)集合國(guó)內(nèi) 外幾十年 EDXRF 尖端技術(shù)，核心部件采用美國(guó)進(jìn)口，軟件算法采用美 國(guó) EDXRF 前沿技術(shù)，儀器所用標(biāo)準(zhǔn)樣品均有權(quán)威第三方檢測(cè)機(jī)構(gòu)報(bào)告； 精密度高、準(zhǔn)確度、檢出限等技術(shù)參數(shù)全面超過(guò)國(guó)內(nèi)外同類(lèi)儀器。
XRF-350B 是一款專(zhuān)門(mén) RoHS 檢測(cè)儀器，其核心光路系統(tǒng)集合國(guó)內(nèi) 外幾十年 EDXRF 尖端技術(shù)，核心部件采用美國(guó)進(jìn)口，軟件算法采用美 國(guó) EDXRF 前沿技術(shù)，儀器所用標(biāo)準(zhǔn)樣品均有權(quán)威第三方檢測(cè)機(jī)構(gòu)報(bào)告； 精密度高、準(zhǔn)確度、檢出限等技術(shù)參數(shù)全面超過(guò)國(guó)內(nèi)外同類(lèi)儀器。
一、XRF-350B機(jī)型指標(biāo)介紹
1.1 工作條件
工作溫度：15-30℃
相對(duì)濕度：40%～50%
電 源：AC :220V ±5V
1.2 技術(shù)性能及指標(biāo):
1.2.1 元素分析范圍從硫(S)到鈾(U)；
1.2.2 元素含量分析范圍為1 PPm到99.99%；
1.2.3 測(cè)量時(shí)間：100-300秒；
1.2.4 RoHS指令規(guī)定的有害元素（限Cd/Pb/Cr/Hg/Br）其檢測(cè)限度最--高達(dá)1PPM；
1.2.5 能量分辨率為160±5電子伏特；
1.2.6 溫度適應(yīng)范圍為15℃至30℃；
1.2.7 電源：交流220V±5V；（建議配置交流凈化穩(wěn)壓電源。）
| 名稱(chēng) | 技術(shù)參數(shù) |
| 探測(cè)器 | 美國(guó)進(jìn)口 sipin 電制冷半導(dǎo)體探測(cè)器（zui新探測(cè)器） |
| 高壓電源 | 管流:0~50kV 管壓:0~2mA |
| 射線(xiàn)管 | 靶材：Mo , W;功率:50W |
| 準(zhǔn)直器 | 光斑大小:φ0.2mm φ0.5mm、φ1.0mm、φ2.0mm、φ3.0mm、φ4.0mm、 φ6.0mmφ8.0mm |
| 樣品倉(cāng)大小 | 439x300x50mm; 儀器尺寸：550x410x320mm; |
| 檢出限 | 對(duì)聚合物材料：LOD( Pb )≤5ppm ; LOD( Hg )≤5ppm ; LOD( Cr )≤5ppm ; LOD( Br) ≤5ppm ; LOD( Cd )≤5ppm ;對(duì)銅基體材料：LOD( Pb)≤20ppm ; |
| 測(cè)試時(shí)間 | 30sec~100sec |
| 鍍層測(cè)試參數(shù) | 偏差：D一層＜5%；第二層＜10%；第三層＜15% |
XRF350B元素分析儀光譜儀，ROSH測(cè)試儀ROSH分析儀 XRF350B元素鹵素檢測(cè)光譜儀
XRF350B元素分析儀光譜儀，ROSH測(cè)試儀ROSH分析儀 XRF350B元素鹵素檢測(cè)光譜儀
