透明晶圓缺陷掃描Lumina AT1

簡(jiǎn)介：

Lumina AT1可以在4分鐘內(nèi)完成150毫米晶圓的掃描，對(duì)于基底上下表面的顆粒、凸起、凹陷、劃痕、內(nèi)含物等缺陷均可一次性成像。在基底，如玻璃，化合物半導(dǎo)體如氮化鎵、砷化鎵、碳化硅等樣品上有獨(dú)特的優(yōu)勢(shì)。也可用于薄膜涂層的成像厚度變化的全表面掃描。

樣品300 x 300 mm。

廠商簡(jiǎn)介

Lumina Instruments，總部位于美國(guó)加利福尼亞州圣何塞，公司創(chuàng)始人在透明、半透明和不透明基板全表面缺陷檢測(cè)創(chuàng)新了更快速準(zhǔn)確的方法，因此創(chuàng)建了革命性的儀器品牌lumina.

技術(shù)創(chuàng)新

將樣片放入AT1系統(tǒng)中，3~5分鐘即可完成掃描。

收集的數(shù)據(jù)將被分析，圖像和缺陷圖將由LuminaSoft軟件生成。
感興趣的缺陷可在掃描電子顯微鏡（SEM）、橢偏儀、顯微鏡等上進(jìn)行進(jìn)一步分析。

將樣品放入系統(tǒng)

直徑為30微米的綠色激光以50毫米的直線(xiàn)運(yùn)動(dòng)，反射光和散射光由四個(gè)探測(cè)器捕獲。

四通道檢測(cè)

AT1有四個(gè)檢測(cè)通道。它們同時(shí)運(yùn)行以生成四個(gè)獨(dú)立的圖像。每個(gè)通道有助于檢測(cè)和分類(lèi)某些缺陷。

極化：薄膜缺陷、污漬反射率：劃痕、內(nèi)應(yīng)力*、玻璃內(nèi)的條紋*
坡度：劃痕、凹坑、凸起、表面形貌
暗場(chǎng)：納米顆粒、包裹體

Lumian AT1和AT1-Auto:AT1采取的樣品的尺寸為300mm，AT1-Auto采取樣品的尺寸為200mm。光斑的大小都在30μm。靈敏度(PSLon玻璃)在150nm;掃描的出結(jié)果的時(shí)間在4/7/15.5min。

AT應(yīng)用：

l 非透明材質(zhì)表面缺陷的檢測(cè)。

l MOCVD外延生長(zhǎng)成膜缺陷管控

l PR膜厚均一性評(píng)價(jià)

l Clean制程清洗效果評(píng)價(jià)

l Wafer在CMP后表面缺陷分析

l 多個(gè)應(yīng)用領(lǐng)域，如ARVR、Glass、光掩模版藍(lán)寶石、Si wafel等、