多壁碳管高速納米分散機(jī)  碳納米管濕磨機(jī) 碳管濕磨機(jī) 單壁碳管在線高速納米分散機(jī)  碳納米管鋰電漿料分散設(shè)備 碳納米管漿料研磨分散設(shè)備 NMP漿料分散設(shè)備

碳納米管是繼 C60之后發(fā)現(xiàn)的碳的又一同素異形體，其徑向尺寸較小，管的外徑一般在幾納米到幾十納米，管的內(nèi)徑更小，有的只有 1nm 左右；而其長度一般在微米級，長度和直徑比非常大，可達(dá) 103～106。因此，碳納米管被認(rèn)為是一種典型的一維納米材料。碳納米管自從被人類發(fā)現(xiàn)以來，就一直被譽(yù)為未來的材料，是近年來國際科學(xué)的前沿領(lǐng)域之一。美國加州 Berkeley 大學(xué) Alex Zettl 教授認(rèn)為，就應(yīng)用前景對 C60和碳納米管進(jìn)行**的比較，C60可以用一頁紙概括，而碳納米管需要一本書來完成。

碳納米管尤其是單壁碳納米管，因其獨(dú)特的結(jié)構(gòu)和優(yōu)異性能，在眾多領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用前景，但其應(yīng)用效果往往依賴于良好的分散狀態(tài)。碳納米管表面惰性，且存在范德華力及 π-π 吸引等相互作用，易團(tuán)聚形成管束或聚團(tuán)，團(tuán)聚會掩蓋其優(yōu)異性能，如在復(fù)合材料中，團(tuán)聚的碳納米管不能有效發(fā)揮增強(qiáng)作用，限制材料整體性能提升。而分散后，碳納米管能更好地與基體材料接觸和相互作用，在電子器件中，均勻分散的單壁碳納米管可形成高效導(dǎo)電網(wǎng)絡(luò)，提升器件導(dǎo)電性和性能穩(wěn)定性；在儲能材料中，良好的分散可增加活性位點(diǎn)與電解質(zhì)接觸，提高電化學(xué)反應(yīng)效率，增強(qiáng)儲能性能。此外，均勻分散的碳納米管能在基體中形成良好的應(yīng)力傳遞路徑，顯著提高復(fù)合材料的力學(xué)性能，如強(qiáng)度、韌性和模量等。

碳納米管的分散要點(diǎn)在于實(shí)現(xiàn)分散的同時(shí)避免打斷管體。實(shí)驗(yàn)室常用的超聲波分散方式難以滿足工業(yè)化大規(guī)模應(yīng)用的需求，而傳統(tǒng)的攪拌與研磨方法不僅效率低下，而且對緩解碳納米管團(tuán)聚的效果甚微。高能球磨雖能打散團(tuán)聚體，卻會將較長的碳納米管打斷，從而顯著降低材料的性能。相比之下，依肯機(jī)械憑借其獨(dú)特的設(shè)計(jì)，在高速分散碳納米管的過程中，能夠有效保持其長度，*大程度地減少分散過程對材料的破壞，同時(shí)，該機(jī)械還具備良好的適應(yīng)性，可適用于不同黏度的分散介質(zhì)，展現(xiàn)出在碳納米管分散領(lǐng)域的顯著優(yōu)勢。

依肯機(jī)械合作的客戶眾多，其中成都某單位和沈陽某大學(xué)尤為突出，這兩家單位在單壁碳管/碳納米管分散領(lǐng)域處于業(yè)內(nèi)龍頭地位。

上海IKN技術(shù)，獨(dú)特創(chuàng)意，融化理念。將IKN高剪切膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改良，在原來CM2000系列的基礎(chǔ)上，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了**分散盤（均質(zhì)盤、乳化盤）。從而形成改良型的膠體磨，先研磨后分散（均質(zhì)、乳化），將物料的處理一步到底的完成，我們將這種改良的膠體磨也稱為“研磨分散機(jī)”、“研磨均質(zhì)機(jī)”、“研磨乳化機(jī)”。

CMD2000系列是IKN（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。

CMD2000研磨機(jī)有一定輸送能力，對高固含量有一定粘稠度物料，CM2000設(shè)計(jì)了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子，進(jìn)行物料的推動輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機(jī)座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運(yùn)轉(zhuǎn)的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計(jì)，可通冷卻或者升溫介質(zhì)。

CMD2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表
 

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10

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