高轉(zhuǎn)速栲膠實驗室在線納米研磨分散機 

栲膠（tannin extract）是由富含單寧的植物原料經(jīng)水浸提和濃縮等步驟加工制得的化工產(chǎn)品。通常為棕黃色至棕褐色，粉狀或塊狀。主要用于鞣皮，制革業(yè)上稱為植物鞣劑。此外還用作選礦**劑、鍋爐水處理劑、鉆井泥漿稀釋劑和金屬表面防蝕劑，凝縮類栲膠也作木工膠粘劑。

性質(zhì)

栲膠溶于水，水溶液屬半膠態(tài)體系。呈弱酸性，加食鹽能發(fā)生鹽析，不同栲膠的鹽析度不同。味苦澀，遇明膠溶液產(chǎn)生沉淀。鞣制生皮時，栲膠溶液中的單寧與皮蛋白質(zhì)（膠原）形成多點氫鍵結(jié)合，使生皮成革。栲膠的中單寧與金屬離子結(jié)合，可形成部分溶解或部分不溶解的絡(luò)合物。凝縮類栲膠中的單寧與甲醛縮合，可制成冷固性或熱固性膠粘劑。單寧易氧化成醌類物質(zhì)，使栲膠溶液顏色加深。栲膠與亞硫酸鹽作用時，單寧分子中引入磺酸基，可使栲膠中不溶物含量減少，冷溶性提高，滲透速度和淺化顏色得到改進。

上海IKN技術(shù)，獨特創(chuàng)意，融化理念。將IKN高剪切膠體磨進行進一步的改良，在原來CM2000系列的基礎(chǔ)上，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了**分散盤（均質(zhì)盤、乳化盤）。從而形成改良型的膠體磨，先研磨后分散（均質(zhì)、乳化），將物料的處理一步到底的完成，我們將這種改良的膠體磨也稱為“研磨分散機”、“研磨均質(zhì)機”、“研磨乳化機”。

CMD2000系列是IKN（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。

CMD2000研磨機為立式分體結(jié)構(gòu)，**的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續(xù)24小時不停機運行。

CMD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

**級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第*級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對制造出*終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

CMD2000研磨機有一定輸送能力，對高固含量有一定粘稠度物料，CM2000設(shè)計了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子，進行物料的推動輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質(zhì)要求嚴苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運轉(zhuǎn)的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計，可通冷卻或者升溫介質(zhì)。

CMD2000系列研磨分散機設(shè)備選型表
 

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10

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