二氧化硅拋光液實驗室高速納米均質機 

氧化硅拋光液是以高純度硅粉為原料，經特殊工藝生產的一種高純度低金屬離子型拋光產品。廣泛用于多種材料納米級的高平坦化拋光。如：硅片、化合物晶體、**光學器件、寶石等的拋光加工。

應用領域

1、 光通訊領域，配合公司專門為光纖連接器開發(fā)的拋光產品，能達到超精細拋光效果，拋光后連接器端面沒有劃傷和缺陷，3D指標和反射衰減指標達到國際標準。2、 硬盤基片的拋光，SiO2磨料呈球形，具有粒度均勻、分散性好、平坦化效率高等優(yōu)點。3、 硅晶圓、藍寶石等半導體及襯底材料的粗拋和精拋，具有拋光速率高，拋光后易清洗，表面粗糙度低，能夠得到總厚偏差（TTV）*小的質量表面。4、其他領域的應用，如不銹鋼、光學玻璃等領域，拋光后能達到良好的拋光效果

上海依肯自主研發(fā)的分體式三級均質機，具有高轉速，低能耗，低噪音，高壽命等優(yōu)勢，經過IKN研發(fā)部全體員工的不懈努力，終于解決了IKN三級分體式均質機的提速問題。市場上一般使用的均質機，由于定轉子精度以及機械密封原因，轉速**只能達到2910轉，而IKN **研發(fā)的三級粉體式均質機將轉速提高大了9000轉，從而更好的解決了市場的需求。

高剪切均質機由于轉子高速旋轉所產生的高切線速度和高頻機械效應帶來的強勁動能，使物料在定、轉子狹窄的間隙中受到強烈的機械及液力剪切、離心擠壓、液層摩擦、撞擊撕裂和湍流等綜合作用，形成懸浮液（固/液），乳液（液體/液體）和泡沫（氣體/液體）。高剪切均質機從而使不相溶的固相、液相、氣相在相應熟工藝和適量添加劑的共同作用下，瞬間均勻精細的分散乳化，經過高頻管線式高剪切分散均質乳化機的循環(huán)往復，*終得到穩(wěn)定的高品質產品。

主要用于微乳液及超細懸浮液的生產。由于工作腔體內三組分散頭（定子+轉子）同時工作，乳液經過高剪切后，液滴更細膩，粒徑分布更窄，因而生成的混合液穩(wěn)定性更好。三組分散頭均易于更換，適合不同的工藝應用。該系列中不同的型號的機器都有相同的線速度和剪切率，非常易于擴大生產。適宜的溫度，壓力與粘度參數(shù)與DISPERSING一樣。也符合CIP/SIP清潔標準，適合食品及醫(yī)藥生產。

ERS2000系列高速分散機設備選型表

1 表中上限處理量是指介質為“水”的測定數(shù)據。

2 處理量取決于物料的粘度，稠度和*終產品的要求。

3 參數(shù)內的各種型號的流量主要取決于所配置的乳化頭的**程度而定。

4 本表的數(shù)據因技術改動，定制而不同，正確的參數(shù)以提供的實物為準

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