工業(yè)中漂白粉實驗室高速研磨分散機 

漂白粉，是氫氧化鈣、氯化鈣，次氯酸鈣的混合物，主要成分是次氯酸鈣，有效氯含量為30/-38/。漂白粉為白色或灰白色粉末或顆粒，有顯著的氯臭味，很不穩(wěn)定，吸濕性強，易受光、熱、水和乙醇等作用而分解。漂白粉溶解于水，其水溶液可以使石蕊試紙變藍，隨后逐漸褪色而變白。遇空氣中的二氧化碳可游離出次氯酸，遇稀鹽酸則產(chǎn)生大量的氯氣。

簡介

漂白粉是一種有較強氯臭的白色粉末，其主要成分是次氯酸鈣。漂白粉主要用于游泳池、工業(yè)循環(huán)水。飲用水、殺菌衛(wèi)生防疫、紙漿紗布等的消毒，其用途非常廣泛。

漂白粉本身具有一定危害性，如遇高溫、水、酸或油脂都會引起燃燒爆炸，并且遇金屬粉末會增加其危險性。此外 ,漂白粉還是助燃劑 ,會助長周圍可燃物的燃燒 ,引起火災 。不僅如此 ,漂白粉在遇水燃燒時會散發(fā)出具有窒息性臭味的氯氣 , 通過上呼吸道和皮膚粘膜對人體造成毒害 。近年來 ,這類事故屢見不鮮 ,不僅造成了巨大的財產(chǎn)損失，而且也對人們的生命構(gòu)成威脅。

上海IKN技術(shù)，獨特創(chuàng)意，融化理念。將IKN高剪切膠體磨進行進一步的改良，在原來CM2000系列的基礎(chǔ)上，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了**分散盤（均質(zhì)盤、乳化盤）。從而形成改良型的膠體磨，先研磨后分散（均質(zhì)、乳化），將物料的處理一步到底的完成，我們將這種改良的膠體磨也稱為“研磨分散機”、“研磨均質(zhì)機”、“研磨乳化機”。

CMD2000系列是IKN（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。

CMD2000研磨機為立式分體結(jié)構(gòu)，**的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續(xù)24小時不停機運行。

CMD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

**級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第*級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下，機器的構(gòu)造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出*終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預期的應用。

CMD2000研磨機有一定輸送能力，對高固含量有一定粘稠度物料，CM2000設(shè)計了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子，進行物料的推動輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質(zhì)要求嚴苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運轉(zhuǎn)的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計，可通冷卻或者升溫介質(zhì)。

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