JK-CH600190-XRD冷熱臺(tái)
JK-CH600190-XRD冷熱臺(tái)是一種安裝在X-射線衍射儀上研究樣品變溫X-射線衍射的附件。產(chǎn)品采用液氮致冷、電阻加熱的方式，提供-190~600℃（選型）或RT~1000℃（選型）溫度范圍內(nèi)的氣氛/真空測試環(huán)境。適合于粉末、片材樣品在變溫下進(jìn)行X-射線結(jié)構(gòu)研究，適配現(xiàn)有各種X-射線衍射儀（布魯克、賽默飛、理學(xué)等）。
產(chǎn)品需要與溫度控制器、致冷控制器（選配）配套使用，配套的上位機(jī)溫控軟件方便進(jìn)行溫度設(shè)置及采集，提供的Labview Vis方便客戶進(jìn)行定制化編程。
產(chǎn)品特點(diǎn)：
溫度范圍-190~600℃（選型）/RT~1000℃（選型）
溫度穩(wěn)定性±0.1℃（＜600℃）±1℃（＞600℃）
衍射角0～164°
X射線視窗Kapton膜
支持反射/透射模式
密腔室設(shè)計(jì)，可升級真空腔室（10^(-3) mBar）
可更換上蓋，作為普通冷熱臺(tái)使用
可調(diào)節(jié)高度，滿足不同厚度樣品測試更換上蓋，可用作光學(xué)冷熱臺(tái)，實(shí)現(xiàn)一機(jī)多用
詳細(xì)參數(shù)一覽表：
XRD原位冷熱臺(tái) | JK-CH600190XV | JK-H1200XV | |
溫控模塊 | 冷熱方式 | 液氮致冷，電阻加熱 | 電阻加熱 |
| 溫控范圍 | -190～600℃ * | RT～1200℃ * | |
溫度穩(wěn)定性 | ±0.1℃（＜600℃），±1℃（＞600℃）* | ||
溫度分辨率 | 0.1℃ | ||
升降溫速率 | 0~30℃/min（可定點(diǎn) / 程序段控溫） | ||
溫控方式 | PID | ||
溫度傳感器 | PT100 | 熱電偶 | |
光學(xué)特性 | 光路 | 反射 * | |
X射線透射膜 | Kapton膜 | ||
結(jié)構(gòu)特性 | 樣品臺(tái)尺寸 | 23×23mm * | 12x12mm * |
樣品臺(tái)材質(zhì) | 銀質(zhì) * | 陶瓷 * | |
外形尺寸 | 100×100×73mm * | ||
腔室 | 真空 | ||
外殼冷卻 | 循環(huán)水 | ||
基本配置 | XRD原位冷熱臺(tái)x1、溫度控制器x1、致冷控制器x1（低溫配置）、液氮罐x1（低溫配置）、定制支架x1、溫控軟件x1、循環(huán)水系統(tǒng)x1、連接管路若干 | ||
選配 | 電腦主機(jī)/定制溫控軟件/定制光學(xué)蓋板 | ||
備注 | 以上均為默認(rèn)參數(shù) * 為可定制項(xiàng) | ||
其他可選型號 | CH400-100-X（-100~400℃） | ||
產(chǎn)品應(yīng)用：
搭配理學(xué)X射線衍射儀 ↓
搭配賽默飛X射線衍射儀 ↓
搭配布魯克X射線衍射儀 ↓
