環(huán)氧樹脂涂料高剪切納米研磨機，高粘度水性涂料研磨機，水性涂料納米膠體磨

水性環(huán)氧涂料耐酸性較差，且適用周期太短僅為80分鐘、固化時間為4h。IKN水性環(huán)氧樹脂涂料及其制備方法:1)將聚乙二醇與順丁烯二酸酐加熱反應(yīng)，隨后加入環(huán)氧樹脂繼續(xù)升溫反應(yīng)，得到環(huán)氧樹脂乳化劑;2)將環(huán)氧樹脂乳化劑與環(huán)氧樹脂進過IKN高剪切納米研磨機混合，通過相反轉(zhuǎn)技術(shù)，得到水性環(huán)氧乳液。IKN高剪切納米研磨機制備的水性環(huán)氧乳液穩(wěn)定性好:水性環(huán)氧涂料在室溫固化，適用周期長，流動性好，所形成的涂層具有良好的力學(xué)性能、硬度及耐酸堿性。

環(huán)氧樹脂涂料高剪切納米研磨機，高粘度水性涂料研磨機，水性涂料納米膠體磨

因為環(huán)氧樹脂涂料高剪切納米研磨機需使用高剪切、高轉(zhuǎn)速、高能量密度等，同時還需要避免污染產(chǎn)生，一般歐洲品牌的設(shè)備比較適合。當然，如果已經(jīng)有XX或日制分散和研磨設(shè)備，則可以采用現(xiàn)有的設(shè)備做粗磨工藝，然后以歐洲生產(chǎn)的設(shè)備做后一個階段超細納米研分散，達到“物盡其用”de應(yīng)用。環(huán)氧樹脂涂料高剪切納米研磨機的細化作用一般來說要弱于均質(zhì)機，但它對物料的適應(yīng)能力較強(如高粘度、大顆粒)，所以在很多場合下，它用于均質(zhì)機的道或者用于高粘度的場合。在固態(tài)物質(zhì)較多時也常常使用膠體磨進行細化。

環(huán)氧樹脂涂料高剪切納米研磨機CM2000系列是門為膠體溶液生產(chǎn)所設(shè)計，特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產(chǎn)。CM2000的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

影響研磨粉碎結(jié)果的因素有以下幾點

1 膠體磨磨頭頭的剪切速率 (越大，效果越好)

M點擊誰

O、聯(lián)系方

2 膠體磨頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒，中齒，細齒，超細齒，約細齒效果越好)

3物料在研磨腔體的停留時間，研磨粉碎時間(可以看作同等的電機，流量越小，效果越好)

4 循環(huán)次數(shù)(越多，效果越好，到設(shè)備的期限，就不能再好)線速度的計算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率

剪切速率(s-1)=v速率(m/s)

g 定-轉(zhuǎn)子 間距(m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素:

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距,

IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2~0.4 mm

速率V=3.14XD(轉(zhuǎn)子直徑)X轉(zhuǎn)速RPM/60

CMS2000的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

三錯齒結(jié)構(gòu)的研磨轉(zhuǎn)子，配合精密的定子腔。此款高速膠體磨比普通的臥式膠體磨的速度達到3倍以上,大的轉(zhuǎn)速可以達到14000RPM。所以可以達到更好的分散濕效果。

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