石墨烯NMP導(dǎo)電漿料高速分散機(jī)，石墨烯NMP漿料分散機(jī)，石墨烯NMP漿料研磨分散機(jī)，石墨烯NMP漿料分散機(jī)，石墨烯NMP溶液混合分散機(jī)，石墨烯NMP漿料混合分散機(jī) 二氧化鋯NMP 稀土氟化物NMP 二硫化鉬NMP

石墨烯（Graphene）是一種由碳原子以sp2雜化軌道組成六角型呈蜂巢晶格的平面薄膜，只有一個碳原子厚度的二維材料。石墨烯目前是世上薄卻也是堅(jiān)硬的納米材料，幾乎完全透明，只吸收2.3%的光；導(dǎo)熱系數(shù)高達(dá)5300W/m，碳納米管和金剛石，常溫下其電子遷移率超過15000cm2/Vs，又比納米碳管或硅晶體高，而電阻率只約10-8Ω/m，比銅或銀更低，為世上電阻率小的材料。石墨烯做電極，可用于液晶顯示器，太陽能電池，ipad和智能手機(jī)使用的觸摸屏，以及有機(jī)發(fā)光二極管（OLED）顯示器，這種顯示器用于電視和計(jì)算機(jī)。由此可見石墨烯的重要性。但是由于市場上大多數(shù)都是雙層或者多層的石墨烯，根本沒有辦法發(fā)揮他的作用，所以把石墨烯加入NMP溶液中，進(jìn)行上海依肯的設(shè)備進(jìn)行機(jī)械剝離分散，就可以讓其發(fā)揮它的優(yōu)勢。

如何得到單層不抱團(tuán)的石墨烯NMP溶液幾乎成了所有研究石墨烯廠家的難題：
多層的石墨烯根本不能發(fā)揮它的效能，由于石墨烯是一種超細(xì)超薄的材料，在不破壞其單層結(jié)構(gòu)的情況下，成了難點(diǎn)。上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司成功地解決了這個問題。上海依肯機(jī)械設(shè)備CMD2000系列的膠體磨（錐體磨）+分散頭的組合，可以先將石墨混合物（配入NMP溶劑和分散劑）用膠體磨（錐體磨）研磨細(xì)化，然后再經(jīng)過分散頭，進(jìn)行分散。這樣既可以細(xì)化又可以避免團(tuán)聚的現(xiàn)象，從而得到單層的石墨烯溶液應(yīng)用于生活中。

石墨烯NMP溶液分散機(jī)，石墨烯NMP漿料分散機(jī)是由膠體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。
級由具有精細(xì)度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離，間隙距離越小磨的越細(xì)。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯斔托缘囊蠓矫?，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來滿足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對制造出終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司定轉(zhuǎn)子間隙0.2-0.3mm，一般國x的間隙在0.5-1mm，轉(zhuǎn)速可達(dá)14000轉(zhuǎn)，國x轉(zhuǎn)速一般是3000轉(zhuǎn)，是國x設(shè)備的3-4倍，依肯的設(shè)備可以達(dá)到國x設(shè)備達(dá)不到的效果，我們的設(shè)備是一款精磨型設(shè)備，特別適合石墨烯這種研磨分散要求高的物料。

上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司的研磨分散機(jī)，可適用于石墨烯加任何一種液體，并且達(dá)到完全想象不到的效果，譬如石墨烯潤滑油膠體磨，石墨烯涂料研磨分散機(jī)，石墨烯漿料膠體磨，石墨烯涂料研磨分散機(jī)。目前依肯已經(jīng)和常州、寧波，成都等大型的石墨烯研究廠家已有深度的合作，并且效果十分可觀。

設(shè)備其它參數(shù):
設(shè)備等級：化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
電機(jī)形式：普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)、
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機(jī)選配件： PTC 熱保護(hù)、降噪型
研磨分散機(jī)材質(zhì)：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機(jī)選配：儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機(jī)表面處理：拋光、耐磨處理
進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式：法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機(jī)選配容器：本設(shè)備適合于各種不同大小的容器

從設(shè)備角度來分析，影響研磨分散機(jī)效果因素有以下幾點(diǎn)：
1.研磨頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次式要好）
2.研磨頭的剪切速率，（越大效果越好）
3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒、中齒、細(xì)齒、超細(xì)齒、越細(xì)齒效果越好）
4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間（可以看作同等電機(jī)，流量越小效果越好）
5.循環(huán)次數(shù)（越多效果越好，到設(shè)備的期限就不能再好了。）
線速度的計(jì)算：
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知，剪切速率取決于以下因素：
轉(zhuǎn)子的線速率
在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個重要因素，速分散均質(zhì)分散機(jī)的高轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細(xì)微懸浮液是重要的

CMSD2000系列研磨分散機(jī)參數(shù)選型表 

研磨分散機(jī) 流量 輸出 線速度 功率 入口/出口連接

類型 l/h rpm m/s kW

CMSD2000/4 300 14,000 41 4 DN25/DN15

CMSD2000/5 1000 10,500 41 11 DN40/DN32

CMSD2000/10 4000 7,200 41 30 DN80/DN65

CMSD2000/20 10000 4,900 41 45 DN80/DN65

CMSD2000/30 20000 2,850 41 90 DN150/DN125

CMSD2000/50 60000 1,100 41 160 DN200/DN150

表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%

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