儀器簡介：

采用制造工藝，可把平面納米壓印拓展到任意曲面。標(biāo)準(zhǔn)模板分為三類：Quartz Molds, Silicon Molds, Polymer Molds of 2"、3"、4"。適用于Obducat，Suss，HP，EVG等多種型號的納米壓印設(shè)備。

技術(shù)參數(shù)：

Delivery of nanoimprint templates in various materials (Si, SiNx, SiC, quartz,gl).Maximum area of the templates:4 inch with feature size of 100 nm. For aller area, minimum feature size of 50 nm. 

提供各種材料的納米壓印模板（硅，氮化硅，碳化硅，石英玻璃）。模板尺寸：4英寸，特征尺寸為100nm。對于更小的尺寸，小的特征尺寸可以50nm。 
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Delivery of EBL service for various structures with the feature size down to 30nm.Substrates: any conducting or non-conducting wafers. 

提供30nm特征尺寸的各種結(jié)構(gòu)的電子束刻蝕服務(wù)?；澹喝魏螌?dǎo)電或者非導(dǎo)電晶片。 
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Micro and nanofabrications for all kinds of nanostructures in a Si, III-V, II-VI and polymers. 

各種納米結(jié)構(gòu)（硅，III-V族元素，II-VI族元素以及聚合物）的微納米加工。

主要特點(diǎn)：

soft mold for thermal nanoimprint 熱壓印的軟模板 

quartz mold for UV nanoimprint 紫外壓印的石英模板 

silicon mold for thermal nanoimprint 熱壓印的硅模板