SHNTI的X-射線薄膜窗能夠?qū)崿F(xiàn)軟X-射線(如真空紫外線)的率。主要用于同步輻射X射線顯微成像時承載樣品。 X-射線越軟(能量越低)，穿透能力越差，所需氮化硅薄膜窗越薄。在“離軸”狀態(tài)工作（即薄膜與光束成角度）時，也需要較薄的薄膜窗口，便于X射線更好地穿透。 
SHNTI提供的氮化硅薄膜窗口是利用現(xiàn)代MEMS技術(shù)制備而成，由于此種氮化硅窗口選用低應(yīng)力氮化硅（0-250MP）薄膜，因此比計量式和ST氮化硅薄膜更堅固耐用。SHNTI提供的氮化硅薄膜窗口適合應(yīng)用于成像和能譜等廣泛的科學(xué)研究領(lǐng)域，例如，X-射線（上海光源成像/能譜線站）、TEM、SEM、IR、UV等。 
現(xiàn)在SHNTI可以提供X-射線顯微成像/能譜（同步輻射）用氮化硅薄膜窗系列產(chǎn)品，規(guī)格如下： 
外框尺寸 (4種標(biāo)準(zhǔn)規(guī)格): 

5 mm x 5 mm (窗口尺寸：1.0 mm 或和 1.5 mm 方形) 

7.5 mm x 7.5 mm (窗口尺寸：2.0 mm 或 2.5 mm) 

10 mm x 10 mm (窗口尺寸：3.0 mm 或 5 mm 方形) 

邊框厚度： 200μm、381μm、525μm。 
Si3N4薄膜厚度：50、100、150和200nm 
SHNTI也可以為用戶定制產(chǎn)品（30-500nm），但要100片起訂。 

本產(chǎn)品為性產(chǎn)品，SHNTI不建議用戶重復(fù)使用，本產(chǎn)品不能進(jìn)行聲清洗，適合化學(xué)清洗、輝光放電和等離子體清洗。

與X射線用氮化硅窗口類似，電鏡（TEM）用氮化硅薄膜窗口也使用低應(yīng)力氮化硅薄膜基底。但整體尺度更小，適合TEM裝樣的要求。窗口有單窗口和多窗口陣列等不同規(guī)格。同時SHNTI也定制多孔氮化硅薄膜窗口。 



現(xiàn)在SHNTI可以提供電鏡（TEM）用氮化硅薄膜窗系列產(chǎn)品，規(guī)格如下： 
外框尺寸: 

3 mm x 3 mm (窗口尺寸：0.5 mm，薄膜厚度：50 nm) 3 mm x 3 mm (窗口尺寸：1.0 mm，薄膜厚度：50 nm) 3 mm x 3 mm (窗口尺寸：1.0 mm，薄膜厚度：100 nm) 邊框厚度： 200μm、381μm。 
Si3N4薄膜厚度： 50nm、100nm 
SHNTI也可以為用戶定制產(chǎn)品(30-200nm)，但要100片起訂。 
本產(chǎn)品為性產(chǎn)品，SHNTI不建議用戶重復(fù)使用，本產(chǎn)品不能進(jìn)行聲清洗，適合化學(xué)清洗、輝光放電和等離子體清洗。

技術(shù)指標(biāo)： 
表面平整度： 
我們認(rèn)為薄膜與其下的硅片同樣平整， TEM用氮化硅薄膜窗口的表面粗糙度為：0.6-2nm。適用于TEM表征。 

親水性 
該窗格呈疏水性，如果樣品取自水懸浮液，懸浮微粒則不能均勻地分布在薄膜上。用等離子蝕刻機(jī)對薄膜進(jìn)行親水處理，可暫時獲得親水效果。雖然沒有對其使用壽命進(jìn)行過測試，但預(yù)期可以獲得與同樣處理的鍍碳TEM網(wǎng)格相當(dāng)?shù)膲勖?。我們可以生產(chǎn)此種蝕刻窗格，但無法其使用壽命。如果實驗室有蝕刻工具也可對其進(jìn)行相應(yīng)的處理其親水性能。 



溫度特性： 
氮化硅薄膜窗口產(chǎn)品是產(chǎn)品，能夠承受1000度高溫，適合在其表面利用CVD方法生長各種納米材料。 

化學(xué)特性： 
氮化硅薄膜窗口是惰性襯底。 

應(yīng)用簡介和優(yōu)點： 
1、 適合TEM、SEM、AFM、XPS、EDX等的對同一區(qū)域的交叉配對表征。 
2、 大窗口尺寸，適合TEM大角度轉(zhuǎn)動觀察。 
3、 無碳、無雜質(zhì)的清潔TEM觀測平臺。 
4、 背景氮化硅無定形、無特征。 
5、 、惰性襯底，適應(yīng)各種聚合物、納米材料、半導(dǎo)體材料、光學(xué)晶體材料和功能薄膜材料的制備環(huán)境，（薄膜直接沉積在窗口上）。 
6、 生物和濕細(xì)胞樣本的理想承載體。是在等離子體處理后，窗口具有很好的親水性。。 
7、 、惰性襯底，也可以用于化學(xué)反應(yīng)和退火效應(yīng)的原位表征。 
8、 適合做為膠體、氣凝膠、材料和納米顆粒等的表征實驗承載體。 

氮化硅薄膜應(yīng)用范圍廣，甚至有時使不可能變?yōu)榭赡?，但?yīng)用都有無氮要求（因樣本中有氮存在）： 
惰性基片可用于高溫環(huán)境下，通過TEM、SEM或AFM（某些情況下）對反應(yīng)進(jìn)行動態(tài)觀察。 
作為耐用基片，先在TEM下，然后在SEM下對同一區(qū)域進(jìn)行“匹配”。 
作為耐用匹配基片，對AFM和TEM圖像進(jìn)行比較。 
聚焦離子束（FIB）樣本的裝載，我們推薦使用多孔薄膜，而非不間斷薄膜。 


許多研究納米微粒，是含氮納米微粒的人員發(fā)現(xiàn)此種薄膜窗格在他們實驗中。氣凝膠和干凝膠的基本組成微粒尺寸小，此項研究人員也同樣會發(fā)現(xiàn)氧化硅薄膜窗格的價值。 
優(yōu)點： 
? SEM應(yīng)用中，薄膜背景不呈現(xiàn)任何結(jié)構(gòu)和特點。 
? x-射線顯微鏡中，裝載多個分析樣的方法。 
? 無氮 
高溫應(yīng)用，氮化硅薄膜在1000°C高溫下仍能保持穩(wěn)定的性能。 

使用前清潔： 
氮化硅薄膜窗格在使用前不需進(jìn)行額外清潔。有時薄膜表面邊角處會散落個別氧化物或氮化物碎片。由于單片網(wǎng)格需要從整個硅片中分離，并對外框進(jìn)行打磨，因此這些微小碎片不可避免。盡管如此，我們相信這些碎片微粒不會對您的實驗產(chǎn)生任何影響。 

如果用戶確實需要對這些碎片進(jìn)行清理，我們建議用H2SO4 : H2O2 (1:1)溶液清潔物，用H2O:HCl: H2O2 (5:3:3)溶液清潔金屬。 

通常不能用聲波清洗器清潔薄膜，因聲波可能使其粉碎性破裂。 


詳細(xì)情況，您可以與我們?nèi)〉寐?lián)系。我們?yōu)槟灰唤獯稹?/P>