陰極發(fā)光儀可用于石英、方解石、白云石以及鉆石等固體樣品結(jié)構(gòu)和組成的確定，同時(shí)，不會(huì)對(duì)樣品造成任何破壞。陰極發(fā)光儀具有換樣快速方便，設(shè)計(jì)簡(jiǎn)單緊湊，以及易于和巖相學(xué)專用顯微鏡聯(lián)機(jī)的優(yōu)點(diǎn)。此外，樣品室對(duì)樣品大小的要求范圍寬，而且對(duì)于適合低溫產(chǎn)生陰極光的樣品控溫能力強(qiáng)。
從80年代開始，陰極發(fā)光技術(shù)不僅應(yīng)用在傳統(tǒng)的地球科學(xué)和行星學(xué)領(lǐng)域，而且開創(chuàng)了玻璃、陶瓷、半導(dǎo)體和合成材料等行業(yè)的研究和應(yīng)用；此外，陰極發(fā)光技術(shù)在法醫(yī)學(xué)、考古學(xué)、材料科學(xué)領(lǐng)域等新的方向具有發(fā)展前途，陰極發(fā)光儀與EDS檢測(cè)器的聯(lián)機(jī)可獲得相關(guān)樣品的X射線光譜特征描述和元素分析。
陰極發(fā)光儀在巖石學(xué)領(lǐng)域的應(yīng)用價(jià)值已經(jīng)得到普遍認(rèn)可，如組份的分區(qū)，二次結(jié)晶、脫液、共生、斷裂填合、輻射環(huán)、化石和有機(jī)殘留物中的骨骼結(jié)構(gòu)、膠結(jié)過程的描述、自生長(zhǎng)石和自生石英的鑒定、砂巖和頁巖的膠結(jié)、礦物在分離過程中的辨認(rèn)等。目前，CAMBRIDGE IMAGE TECHNOLOGY LTD（CITL）的100多臺(tái)產(chǎn)品已經(jīng)廣泛的分布在30多個(gè)國(guó)家的大學(xué)實(shí)驗(yàn)室里，在Elf、Gulf、Shell等15個(gè)石油天然氣公司以及英國(guó)、美國(guó)、法國(guó)、西班牙、荷蘭、阿根廷等國(guó)家的研究機(jī)構(gòu)和國(guó)家歷史博物館也得到應(yīng)用。
陰極發(fā)光儀也應(yīng)用于寶石特性的識(shí)別（天然石或人造石），人造寶石完美程度鑒定。南非、泰國(guó)、荷蘭及英國(guó)的珠寶鑒定機(jī)構(gòu)及珠寶商使用了該類產(chǎn)品。
CL8200 MK5型陰極發(fā)光儀是MK4型的升級(jí)產(chǎn)品，主要在電子微控制和儀表數(shù)字顯示方面進(jìn)行了改進(jìn)。顯示面板新增了控制信息，并且可以根據(jù)房間的照明條件進(jìn)行自動(dòng)亮度補(bǔ)償。產(chǎn)品開發(fā)還考慮到更換樣品時(shí)切斷束流電壓并保證真空泵同時(shí)運(yùn)行，節(jié)省了換樣時(shí)間。另外，還設(shè)計(jì)了與計(jì)算機(jī)連接的擴(kuò)展卡，便于將來儀器的軟件升級(jí)。在絕大多數(shù)應(yīng)用領(lǐng)域，陰極發(fā)光儀只需要少量樣品，無需對(duì)樣品進(jìn)行涂層等前處理，而且測(cè)定過程不會(huì)對(duì)樣品造成任何破壞。陰極發(fā)光儀可以根據(jù)工作目的安裝在各種顯微鏡上，如偏光顯微鏡、實(shí)體顯微鏡、金相顯微鏡等。
技術(shù)參數(shù)：
電源：85－265V，50－100Hz交流電源，150W輸出功率
真空泵：850W輸出功率
使用環(huán)境：溫度：<30oC 濕度：<70%
樣品室：底部窗口用于顯微鏡透射光使用，帶有精密真空控制閥真空復(fù)合管，固態(tài)壓力計(jì)，自動(dòng)排氣閥。
附帶電子槍的樣品室蓋板：TP5型蓋板的短工作距離為5mm。TP9型蓋板的短工作距離為5mm。
微電子控制器
電源輸出：在真空度穩(wěn)定的情況下可達(dá)到30kV，2mA
開關(guān)選擇：更換樣品開關(guān)，自動(dòng)/手動(dòng)，電子槍電壓開關(guān)
預(yù)設(shè)控制：電子槍功率，電壓電流極限，自動(dòng)顯示亮度調(diào)整。
數(shù)字顯示：電壓，電流，真空度，操作模式及儀器狀態(tài)，kV開啟，電子槍輸出極限，真空控制閥操控，內(nèi)部電源輸出診斷信息，控制參數(shù)。
計(jì)算機(jī)接口：RS 232
電子槍保護(hù)：真空連鎖裝置
輔助選項(xiàng)：兩個(gè)輔助電源輸出
真空：自動(dòng)控制閥，自動(dòng)排氣閥?？赏ㄈ牒宓葰怏w。
主要特點(diǎn)：
真空樣品裝置平臺(tái)可以非常便捷地安裝在顯微鏡載物臺(tái)上?？筛鼡Q式蓋板（內(nèi)置電子槍、鉛玻窗）將電子槍和觀察窗相結(jié)合，可獲得的視野效果和有效的高亮度圖像，模塊化電路設(shè)計(jì)和真空室蓋板工藝可以進(jìn)行升級(jí)和擴(kuò)展。通常的拋光樣品既可直接使用，無需進(jìn)一步的處理，既可使用薄樣品也可以使用厚樣品。高真空技術(shù)和全構(gòu)造材料設(shè)計(jì)，保證了真空度和使用安全，真空度可以很快達(dá)到試驗(yàn)條件，一般半分鐘以內(nèi)即可快速更換樣品。全自動(dòng)電子束控制，高速響應(yīng)真空閥電子控制和穩(wěn)定的電子束流可達(dá)到30Kv的高壓，2mA的束流。還可將分析附件擴(kuò)展為EDX、XRF分析儀對(duì)樣品進(jìn)行半定量分析。
