EX3自動橢圓偏振測厚儀是基于消光法（或稱“零橢偏”）測量原理，針對納米薄膜厚度測量領(lǐng)域推出的一款自動測量型教學儀器。與EM22儀器相比，該儀器采用半導體激光器作為光源，穩(wěn)定性好，體積更小。EX3儀器適用于納米薄膜的厚度測量，以及納米薄膜的厚度和折射率同時測量。EX3儀器還可用于同時測量塊狀材料（如，金屬、半導體、介質(zhì)）的折射率n和消光系數(shù)k。
注：(1)測量重復性：是指對標準樣品上同一點、同一條件下連續(xù)測量30次的標準差。
特點:
經(jīng)典消光法橢偏測量原理
儀器采用消光法橢偏測量原理，易于操作者理解和掌握橢偏測量基本原理和過程。
方便安全的樣品水平放置方式
緊湊的一體化結(jié)構(gòu)
高穩(wěn)定性光源
豐富實用的樣品測量功能
便捷的自動化操作
安全的用戶使用權(quán)限管理
可擴展的儀器功能
應用領(lǐng)域:
EX3適合于教學中單層納米薄膜的薄膜厚度測量，也可用于測量塊狀材料的折射率n和消光系數(shù)k。EX3可測量的樣品涉及微電子、半導體、集成電路、顯示技術(shù)、太陽電池、光學薄膜、生命科學、化學、電化學、磁質(zhì)存儲、平板顯示、聚合物及金屬表面處理等領(lǐng)域。技術(shù)指標:
| 項目 | 技術(shù)指標 |
| 儀器型號 | EX3 |
| 測量方式 | 自動測量 |
| 樣品放置方式 | 水平放置 |
| 光源 | 半導體激光器，波長635nm |
| 膜厚測量重復性* | 0.5nm (對于Si基底上100nm的SiO2膜層) |
| 膜厚范圍 | 透明薄膜：1-4000nm吸收薄膜則與材料性質(zhì)相關(guān) |
| 折射率范圍 | 1.3 – 10 |
| 探測光束直徑 | Φ2-3mm |
| 入射角度 | 30°-90°，0.05° |
| 偏振器方位角讀數(shù)范圍 | 0-360° |
| 偏振器步進角 | 0.014° |
| 樣品方位調(diào)整 | Z軸高度調(diào)節(jié)：16mm二維俯仰調(diào)節(jié)：±4° |
| 允許樣品尺寸 | 圓形樣品直徑Φ120mm，矩形樣品可達120mm x 160mm |
| 配套軟件 | * 用戶權(quán)限設置* 多種測量模式選擇* 多個測量項目選擇* 方便的數(shù)據(jù)分析、計算、輸入輸出 |
| 外形尺寸 | （入射角度70°時）450*375*260mm |
| 儀器重量（凈重） | 15Kg |
性能保證:
- ISO9001國際質(zhì)量體系下的儀器質(zhì)量保證
- 的儀器使用培訓
- 的橢偏測量原理課程
