磁控濺射真空鍍膜機(jī)其工作原理是在真空狀態(tài)下，使用弧光放電和輝光放電的工作原理。在金屬和非金屬的工件表面上鍍制金色的氮化鈦，黑色碳化鈦，七彩的氮氧化鈦等。亦可鍍防腐蝕膜（如AL,Cr不銹鋼及TiN等）和耐磨膜，膜層與基底結(jié)合牢固，利用濺射工藝進(jìn)行鍍膜，可提高膜層的附著力、重復(fù)性、致密度、均勻度等特點(diǎn)。適合于塑料制品、陶瓷、樹脂、水晶玻璃制品等、工藝品、塑料手機(jī)殼、電子產(chǎn)品、建材等行業(yè)，具有很好的發(fā)展前景。
 
 
振華真空生產(chǎn)的磁控濺射鍍膜機(jī)的主機(jī)控制采用可編程序控制器（PLC）+觸摸屏（HMI）組合電氣控制系統(tǒng)。全自動(dòng)控制，配置先進(jìn)大功率磁控電源，恒流輸出，克服靶中毒。

磁控濺射全自動(dòng)鍍膜設(shè)備技術(shù)參數(shù)說明
 
設(shè)備型號(hào)：ZCK-1200，ZCK-1400，ZCK-1600，ZCK-1800

真空室尺寸：1200×1500，1400×1950，1600×1950，1800×1950

制膜種類：多功能金屬膜、復(fù)合膜、透明導(dǎo)電膜、增返射膜、電磁屏蔽膜、裝飾膜等

電源類型：直流磁控電源、中頻磁控電源電源、高壓離子轟擊電源

圓柱靶：直流磁控靶、中頻孿生靶、平面靶

真空室結(jié)構(gòu)：立式雙開門、立式單開門

真空系統(tǒng)：滑閥泵＋羅茨泵＋擴(kuò)散泵＋維持泵（或選配：分子泵、深冷泵、深冷系統(tǒng)）

充氣系統(tǒng)：質(zhì)量流量控制儀（1-4路）

極限真空：6×10－4pa（空載、凈室）

抽氣時(shí)間：空載大氣抽至5×10－3pa小于15分鐘

工件旋轉(zhuǎn)方式：6軸/8軸/9軸公自轉(zhuǎn)/變頻無級(jí)調(diào)速

控制方式：手動(dòng)＋半自動(dòng)＋全自動(dòng)一體化/觸摸屏＋PLC

備注：真空室尺寸可按客戶產(chǎn)品及特殊工藝要求訂做

除非注明,本站所有文章均為原創(chuàng)，互聯(lián)分享，尊重版權(quán)，轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明 .

版權(quán)所有: 磁控濺射真空鍍膜機(jī)-振華真空