產(chǎn)品品牌：

林泰

產(chǎn)品型號(hào)：

LTA-10000

結(jié)構(gòu)：

單筒望遠(yuǎn)鏡

功能類型：

數(shù)碼望遠(yuǎn)鏡

用途：

玩具望遠(yuǎn)鏡

適用領(lǐng)域	眼鏡	超聲清洗頻率	28-950KHZ
清洗溫度	0-110（℃）

近10多年來，超聲波清洗設(shè)備正在朝兩個(gè)方面發(fā)展。其一是，各種類型的多缸或傳動(dòng)鏈?zhǔn)交蛏凳匠暻逑瓷a(chǎn)線相繼面市；其二是，低頻超聲波清洗機(jī)向高頻超聲波清洗機(jī)的發(fā)展。在美國、日本、歐洲以及亞太市場(chǎng)上，多缸式超聲波清洗設(shè)備總量已呈明顯上升之勢(shì)，高達(dá)總量的50％，而多工位半自動(dòng)、全自動(dòng)傳動(dòng)鏈?zhǔn)交蛏凳匠暡ㄇ逑淳€體設(shè)備也已上升到總量的40％以上?！　∥覈暡ㄇ逑醇夹g(shù)的應(yīng)用已經(jīng)取得了較好的成效。一是機(jī)械零部件在電鍍前后的清洗或噴涂前的清洗，拆修零部件的清洗，要求高清洗度，如油泵油嘴偶件、軸承、制動(dòng)器、燃油過濾器、閥門的清洗。二是印制電路板、硅片、晶片、元器件殼、座、鐵路系統(tǒng)用的信號(hào)控制繼電器、元器件、連接件、顯像管以及電真空器件等的清洗。三是眼鏡、顯微鏡、望遠(yuǎn)鏡、瞄準(zhǔn)具等光學(xué)系統(tǒng)及取樣玻璃片的清洗。四是醫(yī)用器具、食品、制藥、生化等試驗(yàn)中所用各種瓶罐的清洗。五是噴絲頭、精密模具、精密橡膠件、珠寶工藝品等的清洗?！　∥覈F(xiàn)有各類超聲波清洗設(shè)備制造企業(yè)近40家，但其分布主要集中在東南沿海地區(qū)。據(jù)統(tǒng)計(jì)資料，沿海地區(qū)的廠家占全國總數(shù)的85％，可見經(jīng)濟(jì)發(fā)達(dá)地區(qū)對(duì)超聲波清洗技術(shù)的應(yīng)用不但在先，而且廣泛，普及程度高，同時(shí)，這又證明超聲波清洗技術(shù)在中西部地區(qū)推廣普及的前景十分廣闊。就產(chǎn)品水平而言，當(dāng)代產(chǎn)品與20世紀(jì)70?80年代的產(chǎn)品相比，技術(shù)進(jìn)步也十分明顯?！　〗陙?，由于對(duì)汽車制動(dòng)器生產(chǎn)線、冰箱壓縮機(jī)生產(chǎn)線的傳統(tǒng)清洗工藝實(shí)行技術(shù)改造，擬采用超聲波清洗工藝。在國外汽車底盤架、轎車外殼噴涂前的超聲波清洗，配合專用清洗液，將除銹、去氧化膜及磷化清洗處理完成，烘干后即可噴漆等都有了新的應(yīng)用和發(fā)展。美國Advanced Sonic Proctssing Svstems公司，推出一系列大量清洗煤或貴金屬礦物的設(shè)備，例如清洗金屬顆粒礦物質(zhì)表面的泥土、膠體類物質(zhì)，使化學(xué)劑發(fā)揮更好的作用；洗煤粉除灰去硫等，處理率為每小時(shí)十幾噸?！　∶绹鳧vpont公司在新澤西州制藥廠的應(yīng)用稱：超聲波清洗能除去反應(yīng)罐或化學(xué)處理桶殼表面的污物，比用普通方法節(jié)約能源，費(fèi)用低且減少環(huán)境污染，清洗過程簡單，只要在溶器中灌滿水，加熱到65℃，并加入2％的表面活性劑，進(jìn)行處理2?4h，即可清洗干凈。歐洲的一些廠家曾清洗過9．1m3的罐，以前用甲醇加熱到沸點(diǎn)處理4?8h，總共要進(jìn)行5次清洗才能達(dá)到要求，而且超聲波清洗只需要處理即能達(dá)到要求，既節(jié)省溶劑，提高效率，又減少環(huán)境污染。　　隨著超聲波清洗設(shè)備的應(yīng)用范圍越來越廣泛，各種經(jīng)過不斷完善和改進(jìn)的新穎超聲波清洗設(shè)備正在取代已面市的老式設(shè)備。　　兆赫超聲波清洗技術(shù)是指采用頻率700KHz?2MHz的超聲波進(jìn)行清洗。清洗系統(tǒng)一般由壓電換能器陳列、清洗容器和清洗液、高頻電功率發(fā)生器及控制電路等組成，對(duì)于某些特定的清洗對(duì)象，有時(shí)還配有熱空氣烘干、專用清洗架(籃)及清洗液的過濾循環(huán)系統(tǒng)。　　兆赫超聲波清洗技術(shù)的主要特點(diǎn)，一是避免了高光潔度物體的表面損傷；二是可除去附著在表面的亞微米大小的顆粒；三是浸入液體中，面向換能器的一面能被洗凈，所以要進(jìn)行兩面清洗?！　∧壳?，國外市場(chǎng)上已有商用的兆赫超聲波清洗設(shè)備。美國Verteq、Imtec、ProSys公司已開發(fā)出這類設(shè)備用于半導(dǎo)體生產(chǎn)線上，在對(duì)100?300mm硅片的清洗中，可除去硅片表面上小到0．15μm的微小顆粒，而且可加快漂洗過程并有效地阻止粒子在硅片表面上重新附著。兆赫超聲波清洗是國外許多大規(guī)模集成電路制造廠家生產(chǎn)過程中不可缺少的標(biāo)準(zhǔn)設(shè)備。