MOS管的介紹
mos管是金屬（metal）-氧化物（oxid）-半導體（semiconductor）場效應晶體管，或者稱是金屬-緣體（insulator）-半導體。MOS管的source和drain是可以對調(diào)的，他們都是在P型backgate中形成的N型區(qū)。在多數(shù)情況下，這個兩個區(qū)是一樣的，即使兩端對調(diào)也不會影響器件的性能。這樣的器件被認為是對稱的。MOS管的主要參數(shù)
1.開啟電壓VT
·開啟電壓（又稱閾值電壓）：使得源S和漏D之間開始形成導電溝道所需的柵電壓；
·標準的N溝道MOS管，VT約為3~6V;
·通過工藝上的改進，可以使MOS管的VT值降到2~3V.
2. 直流輸入電阻RGS
·即在柵源之間加的電壓與柵電流之比
·這一特性有時以流過柵的柵流表示
·MOS管的RGS可以很容易地過1010Ω。
3. 漏源擊穿電壓BVDS
·在VGS=0（增強型）的條件下 ,在增加漏源電壓過程中使ID開始劇增時的VDS稱為漏源擊穿電壓BVDS
·ID劇增的原因有下列兩個方面：
?。?）漏附近耗盡層的雪崩擊穿
（2）漏源間的穿通擊穿
·有些MOS管中，其溝道長度較短，不斷增加VDS會使漏區(qū)的耗盡層一直擴展到源區(qū)，使溝道長度為，即產(chǎn)生漏源間的穿通，穿通后，源區(qū)中的多數(shù)載流子，將直接受耗盡層電場的吸引，到達漏區(qū)，產(chǎn)生大的ID
4. 柵源擊穿電壓BVGS
·在增加柵源電壓過程中，使柵電流IG由開始劇增時的VGS,稱為柵源擊穿電壓BVGS.
5. 低頻跨導gm
·在VDS為某一固定數(shù)值的條件下 ,漏電流的微變量和引起這個變化的柵源電壓微變量之比稱為跨導
·gm反映了柵源電壓對漏電流的控制能力
·是表征MOS管放大能力的一個重要參數(shù)
·一般在十分之幾至幾mA/V的范圍內(nèi)
6. 導通電阻RON
·導通電阻RON說明了VDS對ID的影響 ,是漏特性某一點切線的斜率的倒數(shù)
·在飽和區(qū)，ID幾乎不隨VDS改變，RON的數(shù)值很大，一般在幾十千歐到幾百千歐之間
·由于在數(shù)字電路中 ,MOS管導通時經(jīng)常工作在VDS=0的狀態(tài)下，所以這時的導通電阻RON可用原點的RON來近似
·對一般的MOS管而言，RON的數(shù)值在幾百歐以內(nèi)
7. 間電容
·三個電之間都存在著間電容：柵源電容CGS 、柵漏電容CGD和漏源電容CDS
·CGS和CGD約為1~3pF
·CDS約在0.1~1pF之間
8. 低頻噪聲系數(shù)NF
·噪聲是由管子內(nèi)部載流子運動的不規(guī)則性所引起的
·由于它的存在，就使一個放大器即便在沒有信號輸人時，在輸出端也出現(xiàn)不規(guī)則的電壓或電流變化
·噪聲性能的大小通常用噪聲系數(shù)NF來表示，它的單位為分貝（dB）
·這個數(shù)值越小，代表管子所產(chǎn)生的噪聲越小
·低頻噪聲系數(shù)是在低頻范圍內(nèi)測出的噪聲系數(shù)
·場效應管的噪聲系數(shù)約為幾個分貝，它比雙性三管的要小
