MYCRO提供美國(guó)原裝的單晶圓片和掩膜的清洗設(shè)備，均勻度高和國(guó)際水平的兆聲清洗解決方案。提供單晶片或者單片掩膜板的清洗，它通過控制聲波能量密度來對(duì)襯底表面進(jìn)行壞的清洗。表面顆粒的去除可以調(diào)整化學(xué)試劑的配方成分，使得襯底表面存在少量的顆粒。化學(xué)配比系統(tǒng)設(shè)計(jì)了小的化學(xué)試劑的消耗，它提供了程序化的混合方式使化學(xué)試劑在襯底表面均勻的分布。這個(gè)設(shè)計(jì)也提供了的化學(xué)工藝時(shí)間的控制，控制聲波去離子水的流量，然后襯底在熱氮氛圍里旋干。
　　根據(jù)用戶的應(yīng)用需要，某些特定選項(xiàng)將有助于設(shè)備去除不想要的顆粒和雜質(zhì)。
　　具體應(yīng)用
　　清洗功能：
　?。烤A片
　?。克{(lán)寶石外延片
　??？晶圓框架上的芯片
　?。匡@示面板
　?。縄TO膜顯示材料
　??？有圖形掩膜和無(wú)圖形掩膜
　?。垦谀づ髁?
　??？薄膜式掩膜
　??？接觸式掩膜
　　光刻處理工藝：
　??？SPM剝離
　?。抗饪棠z涂膜
　??？光刻膠剝離工藝
　　刻蝕：
　?。拷饘倏涛g（鋁，銅，鉻，鈦）
　　白骨化清洗：
　??？在晶圓片上和雙氧水的混合液
　?。考t外加熱
　?。克⑾?
　??？兆聲雙氧水清洗
　??？熱氮和甩干  產(chǎn)品特點(diǎn)：
　??？針對(duì)21英寸外徑或15x15英寸的基底
　??？聲環(huán)境清洗艙（可配備去離子水，清洗刷，熱去離子水，高壓去離子水，熱氮?dú)猓?
　??？化學(xué)臂
　　？帶化學(xué)的可變速清洗刷
　??？觸屏用戶界面
　　？手動(dòng)上
　?。挎i和報(bào)警器
　?。空嫉爻叽?0"D　x　26"W
　　可選配項(xiàng)：
　??？化學(xué)試劑傳送單元
　??？白骨化清洗
　　？臭氧發(fā)生器
　?。繗浠p氧水發(fā)生器
　??？高壓雙氧單元
　?。繗溥^氧化物
　??？紅外加熱
　??？雙氧水循環(huán)裝置
　　？機(jī)械手上單元
　??？帶EFEM和SMIF界面的集群系統(tǒng)