可以用于沉積幾乎任何金屬及氧化物薄膜，目前主要導量子實驗室均使用該設(shè)備制備導結(jié)（量子比特和約瑟夫森結(jié)）和量子器件，可以制備大面積、高度穩(wěn)定性和可重復性導結(jié)。更詳細信息或資料，請咨詢我們！
　　
　　推薦配置
　　
　　蒸發(fā)腔體：
　　
　　泵裝置：低溫泵/TMP＋葉片泵/干泵；
　　
　　真空度通常10-8Torr
　　
　　電子束蒸發(fā)源：6-15KW
　　Load lock預真空進樣室：
　　
　　泵裝置：TMP＋葉片泵/干泵，
　　
　　真空度<10-7 Torr
　　
　　襯底支架：可加載4英寸襯底
　　
　　襯底3D轉(zhuǎn)動
　　
　　襯底傾斜：角度范圍請咨詢，和重復性0.1°（可升級）；
　　
　　襯底旋轉(zhuǎn)：20rpm.
　　
　　氧化硬件：靜態(tài)氧化
　　
　　氣體接口：氧氣及其他氣體來實現(xiàn)清潔和氧化過程
　　
　　襯底清洗：配備離子
　　
　　石英晶振膜厚控制儀；
　　
　　頻率分辨率：10-4Hz或更優(yōu)
　　
　　速率控制分辨率：0.01Å/s；
　　
　　厚度分辨率：0.01Å
　　
　　全自動軟件包，支持半自動和手動模式，支持遠程網(wǎng)絡操作和維護。
　　
　　典型用戶：耶魯大學、UC、普林斯頓大學、滑鐵盧大學、法國科學研究中心、格拉斯哥大學、日本NTT、清華大學等
　　
　　歡迎咨詢！