真空、氮?dú)夤袒癄t性能指標(biāo)：
主要用途：為導(dǎo)電膠提供氮?dú)獗Ｗo(hù)環(huán)境下的高溫烘烤，保護(hù)元器件鍍層在高溫下不被氧化。在開始工作前預(yù)抽真空，去除工作室內(nèi)空氣，更好的氮?dú)獗Ｗo(hù)環(huán)境。設(shè)備主體部分由不銹鋼制做，并配置膜片泵（干泵）作抽氣泵，對工作室無污染。
主要技術(shù)指標(biāo)：
系統(tǒng)限真空度： 500Pa
工作真空度：1000 Pa
加熱溫度：350℃
工作溫度：可設(shè)兩段加熱，每段加熱目標(biāo)溫度可設(shè)。
溫度均勻性: ±5℃
控溫：±1℃
層溫度調(diào)范圍: ＜5℃
立式真空室尺寸：500×500×500mm
真空室外側(cè)：設(shè)水冷層與保溫層
內(nèi)置隔板層數(shù)：8層，使用6層，上層與下層為輔組層。
每層可放置器件：1000片（3.5×6.0）
工作效率：2.5小時一個循環(huán)（按加熱溫度290℃測試）
主要用途：為導(dǎo)電膠提供氮?dú)獗Ｗo(hù)環(huán)境下的高溫烘烤，保護(hù)元器件鍍層在高溫下不被氧化。在開始工作前預(yù)抽真空，去除工作室內(nèi)空氣，更好的氮?dú)獗Ｗo(hù)環(huán)境。設(shè)備主體部分由不銹鋼制做，并配置膜片泵（干泵）作抽氣泵，對工作室無污染。
主要技術(shù)指標(biāo)：
系統(tǒng)限真空度： 500Pa
工作真空度：1000 Pa
加熱溫度：350℃
工作溫度：可設(shè)兩段加熱，每段加熱目標(biāo)溫度可設(shè)。
溫度均勻性: ±5℃
控溫：±1℃
層溫度調(diào)范圍: ＜5℃
立式真空室尺寸：500×500×500mm
真空室外側(cè)：設(shè)水冷層與保溫層
內(nèi)置隔板層數(shù)：8層，使用6層，上層與下層為輔組層。
每層可放置器件：1000片（3.5×6.0）
工作效率：2.5小時一個循環(huán)（按加熱溫度290℃測試）
