激光直寫機(jī)用于CAD到基板的直接套寫。既可作為常規(guī)的套寫工具也可用于特定規(guī)格的定制系統(tǒng)。LW405B是LW405A的升級版,它包括Windows7用戶界面,全數(shù)字?jǐn)z像機(jī)、XY激光干涉機(jī)以及數(shù)項附加軟件功能。
改系統(tǒng)由三部分組成:
直寫單元
控制單元
LaserDraw 軟件包
每個部分的詳細(xì)技術(shù)介紹參見以下介紹
應(yīng)用包括直接基板套寫及微電子掩膜制造、微波電路、太赫茲技術(shù)、微機(jī)械、微流體、石墨和納米管技術(shù)等。
所述規(guī)格皆可定制
LW405-A 激光直寫型號 標(biāo)準(zhǔn)型 緊湊型 臺式 選配
工作區(qū)域(mm)
激光直寫機(jī)的工作區(qū)域可匹配各類掩膜或基板尺寸。包含一個真空倉(倉體表面通常根據(jù)客戶要求定制)?;宄叽缈梢源笥诨虻扔诠ぷ鲄^(qū)域。 150x150
?。?"x6") 150x150
(6"x6") 50x50
(2"x2") up to 350x350
定位(µm)
這一參數(shù)代表的是在整個工作區(qū)域的定位誤差以及由于不同的掩膜或工藝水平所可能導(dǎo)致的特征重疊。但這與所的分辨率無關(guān),如小線寬。 &plun;0.1 &plun;1 &plun;1
XY 激光干涉儀
10 nm分辨率 Yes No No
小線寬(µm)
小線寬操作者可以在0.8、2、4或8µm間進(jìn)行選擇。對于高密度互聯(lián)或微波電路的快速直寫,可選擇一個低分辨率的模式(10m)。 0.8 0.8 2
曝光波長(nm)
直寫光束的標(biāo)準(zhǔn)波長為405nm(來源于GaN固體激光)。對于生物化學(xué)應(yīng)用可選配325nm波長(來源于He-CD 氣體激光)。05 325,375,405&375
護(hù)層曝光
包含標(biāo)準(zhǔn)的含護(hù)層的膜(鉻或氧化鐵)。除了掩膜直寫,本系統(tǒng)也適用于在終基板上進(jìn)行無膜直接套寫(硅、GaAs、InP、微波\低溫\生物學(xué)基板等)。







