小型激光直寫機(jī)
　　
　　激光直寫機(jī)用于CAD到基板的直接套寫。既可作為常規(guī)的套寫工具也可用于特定規(guī)格的定制系統(tǒng)。LW405B是LW405A的升級版，它包括Windows7用戶界面，全數(shù)字?jǐn)z像機(jī)、XY激光干涉機(jī)以及數(shù)項附加軟件功能。
　　改系統(tǒng)由三部分組成：
　　直寫單元
　　控制單元
　　LaserDraw 軟件包
　　
　　每個部分的詳細(xì)技術(shù)介紹參見以下介紹
　　應(yīng)用包括直接基板套寫及微電子掩膜制造、微波電路、太赫茲技術(shù)、微機(jī)械、微流體、石墨和納米管技術(shù)等。
　　
　　所述規(guī)格皆可定制
　　LW405-A 激光直寫型號 標(biāo)準(zhǔn)型 緊湊型 臺式 選配
　　工作區(qū)域（mm）
　　激光直寫機(jī)的工作區(qū)域可匹配各類掩膜或基板尺寸。包含一個真空倉（倉體表面通常根據(jù)客戶要求定制）?；宄叽缈梢源笥诨虻扔诠ぷ鲄^(qū)域。 150x150
　?。?"x6"） 150x150
　　（6"x6"） 50x50
　　（2"x2"） up to 350x350
　　定位（µm）
　　這一參數(shù)代表的是在整個工作區(qū)域的定位誤差以及由于不同的掩膜或工藝水平所可能導(dǎo)致的特征重疊。但這與所的分辨率無關(guān)，如小線寬。 &plun;0.1 &plun;1 &plun;1

　　XY 激光干涉儀
　　10 nm分辨率 Yes No No
　　小線寬（µm）
　　小線寬操作者可以在0.8、2、4或8µm間進(jìn)行選擇。對于高密度互聯(lián)或微波電路的快速直寫，可選擇一個低分辨率的模式（10m）。 0.8 0.8 2
　　曝光波長（nm）
　　直寫光束的標(biāo)準(zhǔn)波長為405nm（來源于GaN固體激光）。對于生物化學(xué)應(yīng)用可選配325nm波長（來源于He-CD 氣體激光）。05 325，375，405＆375
　　護(hù)層曝光
　　包含標(biāo)準(zhǔn)的含護(hù)層的膜（鉻或氧化鐵）。除了掩膜直寫，本系統(tǒng)也適用于在終基板上進(jìn)行無膜直接套寫（硅、GaAs、InP、微波\低溫\生物學(xué)基板等）。