CP-4是世界通用和的臺式化學(xué)機(jī)械拋光設(shè)備（CMP），可以很好的滿足您的研發(fā)需求。軟件控制，可以對直徑4英寸的晶圓和磁盤進(jìn)行拋光。CETR-CP-4可檢測原位摩擦力，摩擦系數(shù)，溫度，下壓力，磨損，聲發(fā)射等，可以模擬的參數(shù)，如速度，負(fù)載和流量，來模仿一個(gè)大的CMP系統(tǒng)。
　　用于化學(xué)機(jī)械拋光的研究和開發(fā)的各個(gè)方面
　?。繙y試和開發(fā)各種不同的微粒，材料，濃度，氧化劑，抑制劑等的拋光液
　??？測試和開發(fā)不同的材料，溝槽形狀，尺寸，彈性，壽命等
　?。繙y試和發(fā)展拋光墊調(diào)節(jié)裝置來優(yōu)化拋光墊的損耗率，修整，效率等
　?。块_發(fā)CMP定位環(huán)材料來優(yōu)化摩擦，磨損，壽命等
　??？測試去除率，重復(fù)性缺陷，工藝優(yōu)化等，研究或開發(fā)各種應(yīng)用的各種材料
　??？半導(dǎo)體方面-銅，Ta，TaN，Al，Si，SiO，Ru，WC，solar　cells，PVD，CVD，薄膜等
　　？化合物半導(dǎo)體-砷化鎵，銦，磷化物，汞，鎘
　??？應(yīng)用生物材料-牙，骨，鈦，鋼鐵制品等。
　　？光電材料–LED，藍(lán)寶石，紅外窗口拋光激光材料，顯微鏡頭，微光學(xué)，鈮酸鋰，鉭酸鋰，磷酸氧鈦鉀等。
　　
　　同時(shí)實(shí)時(shí)監(jiān)測及處理
　??？通過在晶圓墊和調(diào)節(jié)墊界面處的擁有的傳感器，測量負(fù)載和摩擦力，
　　？通過在晶圓墊和調(diào)節(jié)墊界面處的擁有的傳感器和放大器，測量接觸噪聲
　　？使用聲波表征的缺陷、劃痕，并在加工過程中分層
　??？監(jiān)測流入的拋光液，拋光片表面和流出廢液的溫度