氣體公司氬氣純化機氮氣純化機是蘇州晟宇氣體打造的高純氣體純化系列之一，以的工藝及外觀，高質(zhì)量的氣體純度體現(xiàn)了精湛的技術(shù)含量，相對低廉的價位展示了微利銷售的經(jīng)營理念，服務(wù)于廣大用戶
高純氬氣主要用途：用于焊接、不銹鋼制造、冶煉，還用于半導(dǎo)體制造工藝中的化學(xué)氣相淀積、晶體生長、熱氧化、外延、擴散、多晶硅、鎢化、離子注入、載流、燒結(jié)等氬氣作為制作單晶及多晶硅的保護氣，為了硅晶體的質(zhì)量，如何選用較高純度的氬氣，是制作硅晶體的一個議題。通過本裝置對氬氣的使用，氬氣的純度其中氧含量小于1ppm時，水分也小于1ppm時，制作出的單晶硅其氧碳含量就小于0.5ppm，這樣就了單晶的使用壽命并能要求，客戶的滿意和市場的需求。由于一般液氬汽化后未經(jīng)過純化處理，它的氧含量一般在2ppm~5ppm.有時氣體供應(yīng)商提供的氬氣過了此范圍，但使用氬氣的客戶確不知道其質(zhì)量，所以往往給生產(chǎn)產(chǎn)品質(zhì)量造成影響。有了氬氣純化裝置后不論氬原料氣的質(zhì)量如何，只要經(jīng)過純化裝置的處理后，進入拉晶爐的氬氣，純度是恒定的。一般 O2＜0.2ppm，水分＜1ppm，這樣穩(wěn)定的氬氣對生產(chǎn)晶體質(zhì)量是有的。氬氣純化裝置是針對需要使用純度氬氣的客戶而設(shè)計的。廣泛應(yīng)用于在金屬保護行業(yè)、電子、電光源、科研、氣體、分析、等領(lǐng)域以及光譜儀、氣相色譜儀、科學(xué)儀器等等已知或未知的寬廣領(lǐng)域
裝置特點：
1.催化劑采用了的催化材料。具有吸附深度高，吸收雜質(zhì)氣量大的特點，經(jīng)催化吸附干燥過濾后使其終純度達99.9999%以上。100級的氣體出口過濾器使其終純氣顆粒小于0.1μ，氣體滿足高純氣要求，原位再生功能了氣體的品質(zhì)如一，了的終目的
2.本裝置閥門，容器，管路全系不銹鋼制作，均采用國內(nèi)外制造企業(yè)的名優(yōu)產(chǎn)品，直接了設(shè)備工作過程中的高真空無滲透及無故障運行性。
3.的控制儀表，電路電器選自高端跨國公司，如西門子，施耐德等。
4.設(shè)備連接接頭均選自企業(yè)的VCR接頭，滲漏，快捷。
5.人性化的外觀設(shè)計，使設(shè)備外形精巧更美觀，操作更方便
進出口微氧分析儀在線監(jiān)測，直觀顯示原料氣體氧含量及純化后的氧氣含量。
純氣終過濾系統(tǒng)一用一備，更具人性化，徹底解決無故障運行顧慮。
加氫還原系統(tǒng)采用質(zhì)量流量計控制，真正做到定時定量全自動運行。
一鍵式啟動設(shè)備，工作狀態(tài)實時顯示，操作簡單、、明了。
嚴(yán)格的質(zhì)量控制，在制作過程中，邀請需方作全過程跟蹤督察。
一、設(shè)備工作原理
設(shè)備工作設(shè)有兩組工作組，填裝的凈化材料屬于可再生重復(fù)利用材料。原料液氬經(jīng)汽化器汽化后由設(shè)備工作進入設(shè)備一組工作組，經(jīng)脫氧劑、分子篩及精密過濾器后送出至工作點使用。一組工作組負荷飽和后，切換到另一組工作組工作，為使用點連續(xù)的提供高純氬氣。同時一組工作組開始再生加熱加氫反吹洗（本系統(tǒng)加氫是為了還原脫氧劑，加氫結(jié)束后設(shè)備自動吹洗并直接放空），為等待下切換使用做好準(zhǔn)備。裝置工作為常溫工作，脫氧程度深、碳水含量低，均可并高于GB高純氬氣標(biāo)準(zhǔn)。
二、主要技術(shù)條件
1、處量≥2-320Nm3/h
2、工作壓力＜0.8Mpa
3、原料氬氣純度≥99.99%
4、純化后 O2≤0.2ppm CO＋CO2＜0.3ppm CH4＜0.2 ppm H2O≤1ppm
技術(shù)保障措施；
1組合式純化工藝，分級處理。
2凈化器采用結(jié)構(gòu)和裝料方法，流速設(shè)計合理，氣流分布均勻。
3凈化爐采用設(shè)計的加熱構(gòu)造，加熱均勻、穩(wěn)定。
4采用優(yōu)質(zhì)管件，閥門，避免管道和閥門影響氣體質(zhì)量。
5采用優(yōu)質(zhì)的電器元件和控制儀表，溫度穩(wěn)定，減少溫度和影響。
6凈化器的活化程序，嚴(yán)格按照活化程序執(zhí)行，根據(jù)現(xiàn)場實際情況適當(dāng)調(diào)整。
7對用戶的操作員進行設(shè)備操作培訓(xùn)，了解設(shè)備工作原理，掌握設(shè)備操作方法，熟悉設(shè)備的開車、停車、停電、停水處理方法。
8對用戶設(shè)備建立檔案，及時提醒用戶對設(shè)備進行例行檢查和維護。是設(shè)備處在工作狀態(tài)。
本裝置可與區(qū)熔硅單晶爐配套使用，也可用于激光器、濺射、真空濺射鍍膜機。半導(dǎo)體生產(chǎn)、光譜儀，氣相色譜儀、燈泡、金屬加工等需要用高純氬氣的生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域。
高純氬氣主要用途：用于焊接、不銹鋼制造、冶煉，還用于半導(dǎo)體制造工藝中的化學(xué)氣相淀積、晶體生長、熱氧化、外延、擴散、多晶硅、鎢化、離子注入、載流、燒結(jié)等氬氣作為制作單晶及多晶硅的保護氣，為了硅晶體的質(zhì)量，如何選用較高純度的氬氣，是制作硅晶體的一個議題。通過本裝置對氬氣的使用，氬氣的純度其中氧含量小于1ppm時，水分也小于1ppm時，制作出的單晶硅其氧碳含量就小于0.5ppm，這樣就了單晶的使用壽命并能要求，客戶的滿意和市場的需求。由于一般液氬汽化后未經(jīng)過純化處理，它的氧含量一般在2ppm~5ppm.有時氣體供應(yīng)商提供的氬氣過了此范圍，但使用氬氣的客戶確不知道其質(zhì)量，所以往往給生產(chǎn)產(chǎn)品質(zhì)量造成影響。有了氬氣純化裝置后不論氬原料氣的質(zhì)量如何，只要經(jīng)過純化裝置的處理后，進入拉晶爐的氬氣，純度是恒定的。一般 O2＜0.2ppm，水分＜1ppm，這樣穩(wěn)定的氬氣對生產(chǎn)晶體質(zhì)量是有的。氬氣純化裝置是針對需要使用純度氬氣的客戶而設(shè)計的。廣泛應(yīng)用于在金屬保護行業(yè)、電子、電光源、科研、氣體、分析、等領(lǐng)域以及光譜儀、氣相色譜儀、科學(xué)儀器等等已知或未知的寬廣領(lǐng)域
裝置特點：
1.催化劑采用了的催化材料。具有吸附深度高，吸收雜質(zhì)氣量大的特點，經(jīng)催化吸附干燥過濾后使其終純度達99.9999%以上。100級的氣體出口過濾器使其終純氣顆粒小于0.1μ，氣體滿足高純氣要求，原位再生功能了氣體的品質(zhì)如一，了的終目的
2.本裝置閥門，容器，管路全系不銹鋼制作，均采用國內(nèi)外制造企業(yè)的名優(yōu)產(chǎn)品，直接了設(shè)備工作過程中的高真空無滲透及無故障運行性。
3.的控制儀表，電路電器選自高端跨國公司，如西門子，施耐德等。
4.設(shè)備連接接頭均選自企業(yè)的VCR接頭，滲漏，快捷。
5.人性化的外觀設(shè)計，使設(shè)備外形精巧更美觀，操作更方便
進出口微氧分析儀在線監(jiān)測，直觀顯示原料氣體氧含量及純化后的氧氣含量。
純氣終過濾系統(tǒng)一用一備，更具人性化，徹底解決無故障運行顧慮。
加氫還原系統(tǒng)采用質(zhì)量流量計控制，真正做到定時定量全自動運行。
一鍵式啟動設(shè)備，工作狀態(tài)實時顯示，操作簡單、、明了。
嚴(yán)格的質(zhì)量控制，在制作過程中，邀請需方作全過程跟蹤督察。
一、設(shè)備工作原理
設(shè)備工作設(shè)有兩組工作組，填裝的凈化材料屬于可再生重復(fù)利用材料。原料液氬經(jīng)汽化器汽化后由設(shè)備工作進入設(shè)備一組工作組，經(jīng)脫氧劑、分子篩及精密過濾器后送出至工作點使用。一組工作組負荷飽和后，切換到另一組工作組工作，為使用點連續(xù)的提供高純氬氣。同時一組工作組開始再生加熱加氫反吹洗（本系統(tǒng)加氫是為了還原脫氧劑，加氫結(jié)束后設(shè)備自動吹洗并直接放空），為等待下切換使用做好準(zhǔn)備。裝置工作為常溫工作，脫氧程度深、碳水含量低，均可并高于GB高純氬氣標(biāo)準(zhǔn)。
二、主要技術(shù)條件
1、處量≥2-320Nm3/h
2、工作壓力＜0.8Mpa
3、原料氬氣純度≥99.99%
4、純化后 O2≤0.2ppm CO＋CO2＜0.3ppm CH4＜0.2 ppm H2O≤1ppm
技術(shù)保障措施；
1組合式純化工藝，分級處理。
2凈化器采用結(jié)構(gòu)和裝料方法，流速設(shè)計合理，氣流分布均勻。
3凈化爐采用設(shè)計的加熱構(gòu)造，加熱均勻、穩(wěn)定。
4采用優(yōu)質(zhì)管件，閥門，避免管道和閥門影響氣體質(zhì)量。
5采用優(yōu)質(zhì)的電器元件和控制儀表，溫度穩(wěn)定，減少溫度和影響。
6凈化器的活化程序，嚴(yán)格按照活化程序執(zhí)行，根據(jù)現(xiàn)場實際情況適當(dāng)調(diào)整。
7對用戶的操作員進行設(shè)備操作培訓(xùn)，了解設(shè)備工作原理，掌握設(shè)備操作方法，熟悉設(shè)備的開車、停車、停電、停水處理方法。
8對用戶設(shè)備建立檔案，及時提醒用戶對設(shè)備進行例行檢查和維護。是設(shè)備處在工作狀態(tài)。
本裝置可與區(qū)熔硅單晶爐配套使用，也可用于激光器、濺射、真空濺射鍍膜機。半導(dǎo)體生產(chǎn)、光譜儀，氣相色譜儀、燈泡、金屬加工等需要用高純氬氣的生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域。
