此儀器有以下特點(diǎn)：
1.晶元光罩技術(shù)：
測(cè)量不受機(jī)械誤差影響；
不受機(jī)件老化及磨損影響；
平面座標(biāo)測(cè)量；
不需光柵尺；
不需編碼器；
無阿貝誤差；
X，Y平面座標(biāo)≤5μm；
不受環(huán)境溫度階梯變化影響；
2.非氣浮設(shè)備，無空壓問題。
1.晶元光罩技術(shù)：
測(cè)量不受機(jī)械誤差影響；
不受機(jī)件老化及磨損影響；
平面座標(biāo)測(cè)量；
不需光柵尺；
不需編碼器；
無阿貝誤差；
X，Y平面座標(biāo)≤5μm；
不受環(huán)境溫度階梯變化影響；
2.非氣浮設(shè)備，無空壓問題。
其他說明
| 型號(hào) | GM-7060A | |
| 測(cè)量範(fàn)圍(X*Y*Z) | 700*600*100mm | |
| 工作行程 | ||
| 影像攝取系統(tǒng) | sony晶片高解析彩色CCD | |
| 測(cè)量理論 | 晶元光罩絕對(duì)座標(biāo)系統(tǒng) | |
| 軸向 | 5um | |
| 平面座標(biāo) | &plun;2.5µm ,&plun;4µm,&plun;5µm,&plun;6µm,&plun;7.5µm可選) | |
| 光源系統(tǒng) | 上光LED光源 | |
| LED底光源 | ||
| 光學(xué)放大倍率 | 0.65X-4.5X | |
| 影像放大倍率 | 30X-225X | |
| 儀器結(jié)構(gòu) | 00級(jí)花崗巖 | |
| 工作臺(tái)結(jié)構(gòu) | 00級(jí)花崗巖 | |
| 儀器重量: | 950KG(包括機(jī)架) | |
| 工作臺(tái)承重: | 3-5KG均布 | |
| 軟體配置 | 標(biāo)準(zhǔn) | NEPTUNE EF8000 |
| 作業(yè)系統(tǒng) | 正版XP系統(tǒng) | |
| 電源 | 220V 50&plun;5HZ | |
| 功率 | 1KV | |
| 溫度範(fàn)圍 | 20&plun;5℃ 1℃/h 2℃/24h 1℃/m | |
| 濕度 | 40%-70% | |
| 震動(dòng) | 〈30HZ | |
|
電腦配置 (定期更新) |
主板:華碩P5KPL-SE主板 | |
| CPU:E2200雙核 | ||
| 記憶體:1G | ||
| 硬碟:160G | ||
