二氧化硅消光劑實(shí)驗(yàn)室高速分散機(jī) 

二氧化硅消光劑應(yīng)該具備以下特點(diǎn)：易于分散；消光性能好，低加入量就可以產(chǎn)生強(qiáng)消光性能；對(duì)涂膜的透明性干擾??；對(duì)涂膜的力學(xué)性能和化學(xué)性能影響??；在液體涂料中懸浮性好，能長(zhǎng)時(shí)間貯存，不會(huì)產(chǎn)生硬沉淀；對(duì)涂料流變性影響??；化學(xué)惰性高。

二氧化硅的類型

二氧化硅消光劑有三種類型，均為X射線無定形多孔物質(zhì)。其一為微米級(jí)沉淀水合二氧化硅，原級(jí)粒子呈鏈狀堆積。它是國(guó)內(nèi)外使用*多的一種，價(jià)格低，因?yàn)榱６刃?，用量較大，透明性較差，只適用于低檔及小部分中檔涂料，國(guó)外品牌以贏創(chuàng)德固賽公司（EVONIK Degussa）的ACEMATT? OK系列質(zhì)量**，易于分散，且有蠟處理，不易產(chǎn)生硬沉淀。另一種是微米級(jí)二氧化硅氣凝膠，其原級(jí)粒子形成三維空間網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，孔容一般大于1.5mL/g。國(guó)內(nèi)已有生產(chǎn)，如山東辛化硅膠有限公司。由于采用微米及亞微米級(jí)分級(jí)裝置，粒度分布窄，消光性和透明性與國(guó)外同類品種相當(dāng)。采用蠟處理工藝，長(zhǎng)時(shí)間放置不會(huì)產(chǎn)生硬沉淀。國(guó)外代表性產(chǎn)品為格雷斯公司(GRACE DAVISON) SYLOID? C系列消光劑；INEOS公司Gasil 和HP系列消光劑。第三種是氣相二氧化硅消光劑，以贏創(chuàng)德固賽公司（EVONIK Degussa）生產(chǎn)的***，ACEMATT? TS100 和TT600。其消光性能好，透明性佳，但是易于產(chǎn)生沉淀。對(duì)于微米級(jí)合成二氧化硅的選擇，首先要考慮涂料品種，涂膜厚度，對(duì)透明性要求，是否防止硬沉淀等因素，選擇合適的品種牌號(hào)。

ERX2000采取直立式設(shè)計(jì)，使物料可以全部進(jìn)入分散腔，符合工藝要求和流體力學(xué)要求，增加其工作效率，***低處出口的出料設(shè)計(jì)符合生產(chǎn)要求，垂直的壓力使得該機(jī)器工作更加穩(wěn)定，同時(shí)便于清潔。充分考慮FDA和EHEDG的標(biāo)準(zhǔn)，ERX2000與物料接觸的材料根據(jù)生產(chǎn)要求使用SS316鋼或更加耐酸堿的哈氏合金，**增強(qiáng)其耐磨損和耐腐蝕的特性，杜絕設(shè)備與物料產(chǎn)生物理和化學(xué)變化而形成污染。采用了三層結(jié)構(gòu)卡匣式的機(jī)械密封設(shè)計(jì)，可以快速安裝，可靠性能高，適合制藥工業(yè)。根據(jù)制藥規(guī)范要求，對(duì)分散腔和出料口進(jìn)行表面處理，**的表面處理質(zhì)量和無死角設(shè)計(jì)便于清洗，符合CIP及SIP的清潔標(biāo)準(zhǔn)。

IKN分散機(jī)特點(diǎn)：

  1、處理量大，適合工業(yè)化在線連續(xù)生產(chǎn)

2、粒徑分布范圍窄，分散效果佳

3、省時(shí)、**、節(jié)約能耗

4、噪音低，運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)

5、消除批次間生產(chǎn)的品質(zhì)差異

6、無死角，物料100/通過分散剪切

7、水循環(huán)機(jī)械密封，密封效能好;

8、物料接觸面采用316L不銹鋼，拋光處理，達(dá)到GMP標(biāo)準(zhǔn);

9、具有短距離、低揚(yáng)程輸送功能

10、使用簡(jiǎn)單，維修方便。

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