詢價
- 企業(yè)類型：制造商
- 新舊程度：全新
- 原產地：廣州
- ?樣品盤尺寸：?175mm\t
- 溫控范圍：室溫~200C
- 控溫精度：0.1C
- UV光源波長：185nm和254nm
紫外臭氧清洗儀主要參數：
| 應用范圍 | 芯片，晶圓，光學鏡片等超精密器件的無損傷清洗 | |
| 型號 | OC100 | OC300 |
| 樣品盤尺寸 | 175mm | 350mm |
| 儀器尺寸 | 300*260*230mm | 300*260*230mm |
| UV光源波長 | 185nm和254nm | |
| 溫控范圍 | 室溫~200C(控溫精度0.1C) | |
| 清洗模式 | 臭氧自生成模式/外接臭氧模式 | |
| 清洗時間 | 1~999分鐘連續(xù)可調 | |
| 顯示屏幕 | 5寸高清彩色液晶屏 | |
紫外臭氧清洗儀是一款集高效能、綠色環(huán)保與高精度于一體的表面處理設備，專為滿足科研實驗及工業(yè)化生產中對材料表面潔凈度的嚴苛要求而設計。該設備的核心技術源于185nm與254nm雙波長紫外光源的協(xié)同作用：185nm波長的紫外光能夠裂解空氣中的氧氣產生高活性的臭氧及氧原子，而254nm波長的紫外光則能有效分解由光反應生成的臭氧，并激發(fā)污染物分子。兩者共同作用，通過光化學反應將材料表面的有機物、油脂、光刻膠殘留及微顆粒污染物迅速分解為水和二氧化碳等揮發(fā)性氣體，從而實現從分子層面徹底剝離污染物的深度清潔。
在操作過程中，該設備無需借助任何化學溶劑或腐蝕性試劑，完全依靠物理與化學相結合的干法清洗機制，不僅大幅降低了耗材成本，更避免了化學廢液排放帶來的環(huán)境壓力。其溫和的清潔方式確保了對硅片、石英、金屬、陶瓷等多種基材表面無損傷，尤其適合對表面精度要求極高的光學元件、半導體芯片、生物芯片及航空航天精密部件的預處理。無論是用于提升材料表面親水性、增強鍍膜附著力，還是用于實驗前的潔凈準備，紫外臭氧清洗儀都能在保證清潔效果的同時，相對限度地保護樣品完整性。
憑借其非接觸式的處理特性、均勻的清洗效果以及可精準控制的工藝參數，這款設備已廣泛應用于高校實驗室、微電子制造、醫(yī)療器械表面改性以及新材料研發(fā)等領域，成為推動高精尖制造與科研創(chuàng)新的關鍵工具。其綠色、高效且無損的特點，使其在現代清潔技術中占據了不可替代的地位。
