傳統(tǒng)的橢偏儀作為一個強(qiáng)大的薄膜表征技術(shù)已經(jīng)有超過100年的歷史。而應(yīng)用成像橢偏儀可以將被研究對象的尺寸下調(diào)到微米范圍，此技術(shù)可以應(yīng)用于微結(jié)構(gòu)樣品測試。例如，當(dāng)今信息存儲設(shè)備（如各種硬盤）的讀寫頭-懸臂梁探針微傳感器表面的反應(yīng)涂層就可以用成像橢偏儀進(jìn)行表征。而由于傳統(tǒng)的橢偏儀光斑直徑很大不能用以該類測試。 同時，基于橢偏測試數(shù)據(jù)成像橢圓偏振技術(shù)可以繪制空間分辨率達(dá)到一個微米左右的三維圖像，而且在這個過程中可以同時保留傳統(tǒng)橢圓偏振技術(shù)亞納米膜厚分辨率的優(yōu)點(diǎn)。波長范圍為360-1000納米的光譜型成像橢圓偏振儀基于成像水平可以用來分析厚度更大的多層薄膜?？傊?，更多的獨(dú)立測量數(shù)據(jù)能夠擬合出更多的未知參數(shù)—現(xiàn)實(shí)中，可以獲取更多樣品信息。 產(chǎn)品特點(diǎn) 三合一技術(shù)：集成像橢圓偏振儀；布魯斯特角顯微鏡和成像表面等離子共振譜儀（SPR）于一體 實(shí)時橢偏對比顯微圖像讓您對您的樣品直接觀察—測試時能真正實(shí)時地“看”到您做的東西。 橢偏領(lǐng)域內(nèi)的橫向分辨率讓您研究橫向尺寸小到一個微米的微結(jié)構(gòu)表面。 交互式和易于使用的光學(xué)模塊 液體表面薄膜成像 使微結(jié)構(gòu)薄膜和非均質(zhì)薄膜的研究也能利用橢圓偏振技術(shù) 雙光源系統(tǒng)：激光光源和氙燈光源 更多的波長范圍，更多的數(shù)據(jù)=》更多的樣品薄膜性質(zhì)信息 在您有興趣的波長范圍的薄膜光學(xué)性質(zhì) 在特定波長范圍內(nèi)更高的敏感度 標(biāo)準(zhǔn)配置 PCSA布局（起偏器Polarizer-補(bǔ)償器Compensator-樣品Sample-分析器Analyzer）--消光橢圓偏振技術(shù) （658nm, 20mW）固態(tài)激光光源—其他激光光源可選 獨(dú)立氙燈光源光譜模塊（波長范圍360-1000nm，46片干涉濾鏡）--其他波長范圍可選 768x572像素CCD 10倍物鏡 機(jī)動測角儀 手動樣品臺 EP3測試軟件，EP4模擬-擬合軟件 應(yīng)用領(lǐng)域 微結(jié)構(gòu)試樣：硅基體懸臂梁探針微傳感器表面硫醇/金薄膜分析；增透膜涂層 激光應(yīng)用增透膜分析 微結(jié)構(gòu)薄膜：混合雙層膜的橫向相分離（磷脂）；光微結(jié)構(gòu)支撐磷脂膜； 微結(jié)構(gòu)聚合物 透明基板：50微米薄的云母基板上Fe3O4薄膜的入射角和波長結(jié)合光譜 微芯片：生物芯片；蛋白質(zhì)反應(yīng)；動力學(xué)反應(yīng)測試；多通道測量 …其他Nanofilm_EP3SW應(yīng)用領(lǐng)域… 升級 升級到成像表面等離子共振譜儀分析 原子力顯微鏡/掃描探針（AFM）聯(lián)用技術(shù) 推薦附件 自動樣品臺 激光安全柜 固/液附件和表面等離子共振譜儀附件 溫度控制附件 液體控制附件 2倍，5倍，20倍，50倍物鏡 光斑切割元件 光斑放大/擴(kuò)束元件 EP3測試附加軟件 LB槽，Z向高度控制部件 主動減震系統(tǒng)
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