真空鍍膜電源
　　成都市新都道和電工研究所研發(fā)的DHEP系列逆變偏壓電源主要用于多弧離子鍍膜、磁過濾電弧離子鍍膜、直流磁控濺射鍍膜、非平衡磁控濺射鍍膜和孿生靶中頻磁控濺射鍍膜、等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積（PECVD）等。主要作用：對被鍍工件表面的輝光放電清洗、鍍膜前的離子轟擊、鍍膜時(shí)的離子加速等。合理選用偏壓電源可以地抑制工件表面打火，明顯鍍件的成品率、表面光潔度和膜基結(jié)合力。DHEP系列偏壓電源是傳統(tǒng)直流偏壓電源的更新?lián)Q代產(chǎn)品。
　　
　　主要特點(diǎn)
　　1.采用的開關(guān)電源技術(shù)，具有體積小、效率高、運(yùn)行穩(wěn)定、噪聲低、對干擾小等優(yōu)點(diǎn)。DHEP系列偏壓電源在和鍍膜工藝的穩(wěn)定性上顯示出明顯的優(yōu)勢。
　　2.具備自動(dòng)穩(wěn)壓功能，可在電壓和負(fù)載波動(dòng)情況下，電源、穩(wěn)定地工作，充分鍍膜工藝的重復(fù)性。
　　3.針對實(shí)際工作時(shí)存在的頻繁打火現(xiàn)象，設(shè)計(jì)了多重實(shí)用保護(hù)措施。DHEP系列電源能在頻繁打火時(shí)充分保護(hù)電源及生產(chǎn)工件不被損壞，并且能連續(xù)穩(wěn)定工作。
　　4.可選擇近地手動(dòng)控制、遠(yuǎn)端手動(dòng)控制、模擬量控制接口和數(shù)字控制接口。
　　
　　主要技術(shù)參數(shù)
　　1.輸入電壓：AC380V／220VAC 50Hz
　　2.工作效率：≥90％
　　3.輸出電壓：0-10KV 連續(xù)可調(diào)
　　4.輸出電流：0-1A連續(xù)可調(diào)
　　5.輸出紋波：≤0.1％）
　　6.控制：≤1％
　　
　　7.控制模式：恒流／恒壓／恒功率可選
　　8.外部接口：PLC模擬信號／RS485可選
　　9.緣電阻：≥200MΩ
　　10.緣耐壓：≥1500V／1分鐘
　　11.環(huán)境溫度：0～50℃
　　12、保護(hù)方式：具有過壓、過流、缺相、過載等保護(hù)功能。告警功能：具有電流告警、短路告警功能。
　　（可根據(jù)客戶需求定做）