ETD系列離子濺射儀是依據(jù)二（DC）直流濺射原理設計而成的，簡單、、經(jīng)濟的鍍膜設備。不但滿足掃描電鏡制備薄膜需要，而且也可作為實驗設備，濺射較厚的導電膜層用于其他實驗。
ETD系列離子濺射儀，可選擇普通濺射電，也可選擇磁控濺射電，有1600V和3000V電離電壓可選。
基本指標
靶（上部電）：Au/Pt：直徑：50mm，厚度：0.12mm
真空樣品室：直徑：160mm，高：120mm
樣品臺及工作距離：旋轉(zhuǎn)樣品臺，簡配固定樣品臺，高度手動調(diào)節(jié)
濺射面積：Ф50mm，放置
真空指示表：真空度：≤4X10-2 mbar
離子電流表：電流：50mA/100mA
定時器：長時間：900S
真空度手動控制：微型真空氣閥，可連接φ3mm軟管
可通入氣體：多種
機械泵：2L/S （120L/min）
ETD系列離子濺射儀，可選擇普通濺射電，也可選擇磁控濺射電，有1600V和3000V電離電壓可選。
基本指標
靶（上部電）：Au/Pt：直徑：50mm，厚度：0.12mm
真空樣品室：直徑：160mm，高：120mm
樣品臺及工作距離：旋轉(zhuǎn)樣品臺，簡配固定樣品臺，高度手動調(diào)節(jié)
濺射面積：Ф50mm，放置
真空指示表：真空度：≤4X10-2 mbar
離子電流表：電流：50mA/100mA
定時器：長時間：900S
真空度手動控制：微型真空氣閥，可連接φ3mm軟管
可通入氣體：多種
機械泵：2L/S （120L/min）
